一种新型半导体KP15纳米线及其制备工艺

    公开(公告)号:CN105439084A

    公开(公告)日:2016-03-30

    申请号:CN201510886442.5

    申请日:2015-12-06

    CPC classification number: B82B3/0009 B82Y40/00 H01L29/0669

    Abstract: 本发明涉及一种新型半导体KP15纳米线及其制备工艺,该半导体纳米线的分子式为KP15,制备工艺为液相剥离或机械剥离。其优点是:所制备的半导体纳米线具有高各向异性,纳米线方向沿P15管方向,纳米线宽度最小可达80nm,所制备的纳米线是通过液相剥离或机械剥离的方法直接从KP15块上剥离下来,液相剥离所用剥离溶液易挥发且所用设备简单易维护。所制得的纳米线对今后研究KP15半导体纳米线有着重要意义。

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