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公开(公告)号：CN110673258A
公开(公告)日：2020-01-10
申请号：CN201910934774.4
申请日：2019-09-29
Applicant: 北京工业大学
IPC: G02B6/02
Abstract: 本发明公开了一种紫外激光掩模板法刻写多种光纤光栅的系统，主要包括光源部分、刻写部分和测试部分。该系统采用输出光斑面积小、光束质量好的五倍频固体激光作为曝光光源进行扫描曝光，光路中整合了拉力传感器、角位移台和CCD观察系统，能实现同一个系统、同一块掩模板下不同长度、不同中心波长以及不同倾斜角度光纤光栅的高质量刻写。克服了传统刻写系统结构复杂、刻写品种单一、操作繁琐、刻写效率低等缺点，且对待刻光纤尺寸没有特殊要求，能够满足多种光纤系统的应用需求，刻写结果优于传统刻写系统。
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