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公开(公告)号:CN100590903C
公开(公告)日:2010-02-17
申请号:CN200810103803.4
申请日:2008-04-11
Applicant: 北京工业大学
Abstract: 用于相变存储器的Si-Te-Sb系列相变薄膜材料属于微电子技术领域。目前Ge2Te5Sb2材料的结晶温度较低(约为165度)面临着数据丢失的危险。本发明提供的一种用于相变存储器的硅-碲-锑存储材料,组成通式为SiaTebSb100-(a+b),其中20≤a≤60,20≤b<48。该材料具有相对较高的结晶温度、较好的热稳定性以及更强的数据保持能力,同时还具有均匀的晶体相结构和纳米级的晶粒尺寸,在改善了疲劳特性的同时又具有较好的可逆相变能力。
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公开(公告)号:CN101257090A
公开(公告)日:2008-09-03
申请号:CN200810103803.4
申请日:2008-04-11
Applicant: 北京工业大学
Abstract: 用于相变存储器的Si-Te-Sb系列相变薄膜材料属于微电子技术领域。目前Ge2Te5Sb2材料的结晶温度较低(约为165度)面临着数据丢失的危险。本发明提供的一种用于相变存储器的硅-碲-锑存储材料,组成通式为SiaTebSb100-(a+b),其中20≤a≤60,20≤b<48。该材料具有相对较高的结晶温度、较好的热稳定性以及更强的数据保持能力,同时还具有均匀的晶体相结构和纳米级的晶粒尺寸,在改善了疲劳特性的同时又具有较好的可逆相变能力。
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