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发明公开
一种化学退镀液和退镀方法无效

公开(公告)号：CN103924245A

公开(公告)日：2014-07-16

申请号：CN201410143741.5

申请日：2014-04-10

Applicant: 北京工业大学

Inventor： 夏志东 , 王峰 , 李婷婷 , 庞艺 , 雷永平 , 郭福

IPC: C23F1/18 , C23F1/28

Abstract: 一种化学退镀液和退镀方法，属于退渡技术领域。包括硫酸、双氧水和缓蚀剂的水溶液，缓蚀剂为含有氮或硫等的有机物，或者含有-COOR，-COOH，-CHO，三键(C≡C)或多元羟基-OH等高极性的有机化合物。本发明的退渡液退镀速度快，在合适的温度下，可以再两分钟内退除0.2mm厚的镍、铜镀层。

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