原子层沉积连续式双面镀膜的卷绕装置

    公开(公告)号:CN109082648A

    公开(公告)日:2018-12-25

    申请号:CN201811345539.5

    申请日:2018-11-13

    Inventor: 张跃飞 屠金磊

    Abstract: 本发明公开了一种原子层沉积连续式双面镀膜的卷绕装置,包括箱体,箱体内依次设置有第一区域、第二区域和第三区域,第一区域内设置有放卷辊、第一过渡辊、第一进气系统和第一加热器,第二区域内设置有第二进气系统,第三区域内设置有收卷辊、第二过渡辊、第三进气系统和第二加热器,放卷辊和收卷辊分别用以放卷和收卷基带,第一过渡辊和第二过渡辊用以对基带的变向位置进行支撑,第一进气系统、第二进气系统和第三进气系统均包括伸入箱体内的匀气管,第一区域、第二区域和第三区域的箱体上均设置有出气口。本发明通过设置匀气管,可使气体在通入箱体内时均匀分布,以提高反应效率,使原子层沉积更均匀。

    一种纤维磁控溅射连续镀金属导电功能薄膜的装置和方法

    公开(公告)号:CN103741109B

    公开(公告)日:2015-09-09

    申请号:CN201310753202.9

    申请日:2013-12-31

    Abstract: 一种纤维磁控溅射连续镀金属导电功能薄膜的装置和方法属于真空镀膜领域。将纤维丝线缠绕在放卷装置上,然后放入真空室内进行走丝,由放卷装置放出的纤维丝线多次且平行的通过等离子体清洗装置进行清洗、粗化,清洗后的纤维丝线多次且平行的通过等离子体辅助镀膜装置和矩形磁控溅射靶进行镀膜,完成镀膜的纤维丝线收于收卷装置完成镀膜。等离子体清洗装置进行清洗和表面粗化时所通气体为氧气和氩气混合气体,分解纤维上面的油性物质,同时对纤维表面进行粗化处理以增加薄膜的附着力。等离子体辅助装置的作用是通过离子轰击增强薄膜的附着力。本发明解决了现有技术的污染,运行成本高,附着力差等缺点,具有镀层均匀,无杂质,附着力高等优点。

    一种原子层沉积间歇式双面镀膜的卷绕装置及其工作方法

    公开(公告)号:CN109295437B

    公开(公告)日:2023-05-16

    申请号:CN201811345562.4

    申请日:2018-11-13

    Inventor: 张跃飞 屠金磊

    Abstract: 本发明公开一种原子层沉积间歇式双面镀膜的卷绕装置,包括沉积真空室,沉积真空室两端连接放卷真空室和收卷真空室,放卷真空室内设置有放卷辊,放卷辊连接有放卷磁流体,放卷磁流体通过放卷磁粉离合器连接有放卷伺服电机;收卷真空室内设置有收卷辊,收卷辊连接有收卷磁流体,收卷磁流体通过收卷磁粉离合器连接有收卷伺服电机;放卷辊和收卷辊上用于缠绕基带;沉积真空室上下两侧分别交错设置有多个热电偶和加热器;沉积真空室上设置有匀气座;沉积真空室、放卷真空室和收卷真空室上分别开设有抽气口。本发明还提供一种原子层沉积间歇式双面镀膜的卷绕装置的工作方法,在上述装置的基础上采用该方法后使原子层沉积简单方便,效率高。

    一种原子层沉积间歇式双面镀膜的卷绕装置及其工作方法

    公开(公告)号:CN109295437A

    公开(公告)日:2019-02-01

    申请号:CN201811345562.4

    申请日:2018-11-13

    Inventor: 张跃飞 屠金磊

    Abstract: 本发明公开一种原子层沉积间歇式双面镀膜的卷绕装置,包括沉积真空室,沉积真空室两端连接放卷真空室和收卷真空室,放卷真空室内设置有放卷辊,放卷辊连接有放卷磁流体,放卷磁流体通过放卷磁粉离合器连接有放卷伺服电机;收卷真空室内设置有收卷辊,收卷辊连接有收卷磁流体,收卷磁流体通过收卷磁粉离合器连接有收卷伺服电机;放卷辊和收卷辊上用于缠绕基带;沉积真空室上下两侧分别交错设置有多个热电偶和加热器;沉积真空室上设置有匀气座;沉积真空室、放卷真空室和收卷真空室上分别开设有抽气口。本发明还提供一种原子层沉积间歇式双面镀膜的卷绕装置的工作方法,在上述装置的基础上采用该方法后使原子层沉积简单方便,效率高。

    一种纤维磁控溅射连续镀金属导电功能薄膜的装置和方法

    公开(公告)号:CN103741109A

    公开(公告)日:2014-04-23

    申请号:CN201310753202.9

    申请日:2013-12-31

    Abstract: 一种纤维磁控溅射连续镀金属导电功能薄膜的装置和方法属于真空镀膜领域。将纤维丝线缠绕在放卷装置上,然后放入真空室内进行走丝,由放卷装置放出的纤维丝线多次且平行的通过等离子体清洗装置进行清洗、粗化,清洗后的纤维丝线多次且平行的通过等离子体辅助镀膜装置和矩形磁控溅射靶进行镀膜,完成镀膜的纤维丝线收于收卷装置完成镀膜。等离子体清洗装置进行清洗和表面粗化时所通气体为氧气和氩气混合气体,分解纤维上面的油性物质,同时对纤维表面进行粗化处理以增加薄膜的附着力。等离子体辅助装置的作用是通过离子轰击增强薄膜的附着力。本发明解决了现有技术的污染,运行成本高,附着力差等缺点,具有镀层均匀,无杂质,附着力高等优点。

    原子层沉积连续式双面镀膜的卷绕装置

    公开(公告)号:CN208995597U

    公开(公告)日:2019-06-18

    申请号:CN201821863927.8

    申请日:2018-11-13

    Inventor: 张跃飞 屠金磊

    Abstract: 本实用新型公开了一种原子层沉积连续式双面镀膜的卷绕装置,包括箱体,箱体内依次设置有第一区域、第二区域和第三区域,第一区域内设置有放卷辊、第一过渡辊、第一进气系统和第一加热器,第二区域内设置有第二进气系统,第三区域内设置有收卷辊、第二过渡辊、第三进气系统和第二加热器,放卷辊和收卷辊分别用以放卷和收卷基带,第一过渡辊和第二过渡辊用以对基带的变向位置进行支撑,第一进气系统、第二进气系统和第三进气系统均包括伸入箱体内的匀气管,第一区域、第二区域和第三区域的箱体上均设置有出气口。本实用新型通过设置匀气管,可使气体在通入箱体内时均匀分布,以提高反应效率,使原子层沉积更均匀。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利

    一种原子层沉积间歇式双面镀膜的卷绕装置

    公开(公告)号:CN208995596U

    公开(公告)日:2019-06-18

    申请号:CN201821863344.5

    申请日:2018-11-13

    Inventor: 张跃飞 屠金磊

    Abstract: 本实用新型公开一种原子层沉积间歇式双面镀膜的卷绕装置,包括沉积真空室,沉积真空室两端连接放卷真空室和收卷真空室,放卷真空室内设置有放卷辊,放卷辊连接有放卷磁流体,放卷磁流体通过放卷磁粉离合器连接有放卷伺服电机;收卷真空室内设置有收卷辊,收卷辊连接有收卷磁流体,收卷磁流体通过收卷磁粉离合器连接有收卷伺服电机;放卷辊和收卷辊上用于缠绕基带;沉积真空室上下两侧分别交错设置有多个热电偶和加热器;沉积真空室上设置有匀气座;沉积真空室、放卷真空室和收卷真空室上分别开设有抽气口。本实用新型提供的原子层沉积间歇式双面镀膜的卷绕装置,后使原子层沉积简单方便,效率高。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利

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