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公开(公告)号：CN119771303A
公开(公告)日：2025-04-08
申请号：CN202510230082.7
申请日：2025-02-28
Applicant: 北京工业大学
Abstract: 本发明公开了一种构建均匀反应场入口结构及调控方法，包括供气调节管路、射流分配体、射流数量调节体、射流角度调节体和主流反应气管；所述供气调节管路，包括主管路、流量计、调节阀、分支管路、压力表；射流分配体，包括内层气入口、内层气分配腔、内层环腔、射流体、射流通道；射流通道包括面积增大通道、变径通道、流入通道；射流数量调节体，包括外层气入口、外层气分配腔、外层气流腔、阻流通道；本发明为了满足化工反应器内部轴向射流及周向射流间的高效均匀掺混及灵活调控需求，提出了一种构建均匀反应场入口结构及调控方法，具有快速掺混、均匀混合、反应效率高及在线灵活调控的优势。
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