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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107486045A
公开(公告)日：2017-12-19
申请号：CN201710727782.2
申请日：2017-08-23
Applicant: 北京工业大学
Abstract: 一种MoS2/聚电解质杂化纳滤膜及其制备方法，属于膜分离技术领域。包括以下步骤：制备PDDA表面修饰的纳米MoS2；配置阴离子聚电解质溶液和含PDDA表面修饰的纳米MoS2阳离子聚电解质溶液；通过阴离子聚电解质和含PDDA表面修饰的纳米MoS2阳离子聚电解质之间的静电作用层层自组装技术，得到MoS2/聚电解质杂化纳滤膜。MoS2是一种类石墨烯的二维层状材料，具有独特的片层状结构。制备MoS2过程中，加入聚二甲基二烯丙基氯化铵(PDDA)使其表面荷正电，并提高分散稳定性，在自组装过程中能均匀分散在膜中，得到一种MoS2分散性能较优的杂化纳滤膜，对染料水溶液显示优异的分离去除率和通量。
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公开(公告)号：CN108339412A
公开(公告)日：2018-07-31
申请号：CN201810247004.8
申请日：2018-03-23
Applicant: 北京工业大学
CPC classification number: B01D69/12 , B01D61/027 , B01D67/0044 , B01D71/02 , B01D71/025
Abstract: 一种原位生长MoS2无机复合纳滤膜及其制备方法，属于膜分离技术领域。陶瓷基膜清洗并采用硅烷偶联剂预处理，制备包含钼源与硫源的前驱体溶液，将陶瓷基膜浸入其中进行反应。本发明的原位反应一次成膜方法工艺简单，不需要特殊的剥离和真空沉积步骤，且不需要特殊的有机试剂，环境友好。得到的MoS2无机纳滤膜具有良好的分离性能，不仅对染料水溶液有较好的纳滤分离性能，而且还对含染料的有机溶液有较好的有机溶剂纳滤分离性能。
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公开(公告)号：CN107486045B
公开(公告)日：2020-08-21
申请号：CN201710727782.2
申请日：2017-08-23
Applicant: 北京工业大学
Abstract: 一种MoS2/聚电解质杂化纳滤膜及其制备方法，属于膜分离技术领域。包括以下步骤：制备PDDA表面修饰的纳米MoS2；配置阴离子聚电解质溶液和含PDDA表面修饰的纳米MoS2阳离子聚电解质溶液；通过阴离子聚电解质和含PDDA表面修饰的纳米MoS2阳离子聚电解质之间的静电作用层层自组装技术，得到MoS2/聚电解质杂化纳滤膜。MoS2是一种类石墨烯的二维层状材料，具有独特的片层状结构。制备MoS2过程中，加入聚二甲基二烯丙基氯化铵(PDDA)使其表面荷正电，并提高分散稳定性，在自组装过程中能均匀分散在膜中，得到一种MoS2分散性能较优的杂化纳滤膜，对染料水溶液显示优异的分离去除率和通量。
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公开(公告)号：CN108339412B
公开(公告)日：2020-11-06
申请号：CN201810247004.8
申请日：2018-03-23
Applicant: 北京工业大学
Abstract: 一种原位生长MoS2无机复合纳滤膜及其制备方法，属于膜分离技术领域。陶瓷基膜清洗并采用硅烷偶联剂预处理，制备包含钼源与硫源的前驱体溶液，将陶瓷基膜浸入其中进行反应。本发明的原位反应一次成膜方法工艺简单，不需要特殊的剥离和真空沉积步骤，且不需要特殊的有机试剂，环境友好。得到的MoS2无机纳滤膜具有良好的分离性能，不仅对染料水溶液有较好的纳滤分离性能，而且还对含染料的有机溶液有较好的有机溶剂纳滤分离性能。
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公开(公告)号：CN111330452A
公开(公告)日：2020-06-26
申请号：CN202010215405.2
申请日：2020-03-24
Applicant: 北京工业大学
Abstract: 一种聚硫酸酯平板超滤膜及其制备方法，属于膜分离技术领域。包括以下步骤：将添加剂和填充剂充分溶解或分散于溶剂中，再将聚硫酸酯溶解其中，完全脱泡后刮涂在支撑板上，最后浸入凝固浴中成膜。通过引入添加剂，填充剂，改变溶剂或聚合物浓度制备了一系列不同孔径大小的聚硫酸酯超滤膜。填充剂的加入可显著提升其抗菌与抗污染性能，增大机械强度，提升结构稳定性，同时聚硫酸酯膜具有极佳的耐酸耐碱性，显示出广泛的工业应用潜力。
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