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公开(公告)号：CN114908335A
公开(公告)日：2022-08-16
申请号：CN202110171102.X
申请日：2021-02-08
Applicant: 北京大学口腔医学院
IPC: C23C16/50
Abstract: 本申请公开一种进行金属表面改性的装置，其包括：箱体，所述箱体包括气体冷却系统、稀有气体输入系统、废气排出系统和样品放置台；所述箱体内还设置有隔离发生腔，所述隔离发生腔分别与所述气体冷却系统和所述废气排出系统连接；所述样品放置台设置在所述隔离发生腔的下方，其中所述样品放置台上放置有金属片；所述隔离发生腔内还具有等离子体放电发生器，所述稀有气体输入系统与所述等离子体放电发生器连接，所述等离子体放电发生器用于产生射流等离子体并喷射到所述金属片的表面。通过本申请实现了在大气压环境下有效激发等离子体射流，能够诱导液体表面改性剂的激发，在金属表面引入有机活性基团。
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公开(公告)号：CN114908335B
公开(公告)日：2025-02-14
申请号：CN202110171102.X
申请日：2021-02-08
Applicant: 北京大学口腔医学院
IPC: C23C16/50
Abstract: 本申请公开一种进行金属表面改性的装置，其包括：箱体，所述箱体包括气体冷却系统、稀有气体输入系统、废气排出系统和样品放置台；所述箱体内还设置有隔离发生腔，所述隔离发生腔分别与所述气体冷却系统和所述废气排出系统连接；所述样品放置台设置在所述隔离发生腔的下方，其中所述样品放置台上放置有金属片；所述隔离发生腔内还具有等离子体放电发生器，所述稀有气体输入系统与所述等离子体放电发生器连接，所述等离子体放电发生器用于产生射流等离子体并喷射到所述金属片的表面。通过本申请实现了在大气压环境下有效激发等离子体射流，能够诱导液体表面改性剂的激发，在金属表面引入有机活性基团。
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公开(公告)号：CN215163116U
公开(公告)日：2021-12-14
申请号：CN202120353356.9
申请日：2021-02-08
Applicant: 北京大学口腔医学院
IPC: C23C16/50
Abstract: 本申请公开一种进行金属表面改性的装置，其包括：箱体，所述箱体包括气体冷却系统、稀有气体输入系统、废气排出系统和样品放置台；所述箱体内还设置有隔离发生腔，所述隔离发生腔分别与所述气体冷却系统和所述废气排出系统连接；所述样品放置台设置在所述隔离发生腔的下方，其中所述样品放置台上放置有金属片；所述隔离发生腔内还具有等离子体放电发生器，所述稀有气体输入系统与所述等离子体放电发生器连接，所述等离子体放电发生器用于产生射流等离子体并喷射到所述金属片的表面。通过本申请实现了在大气压环境下有效激发等离子体射流，能够诱导液体表面改性剂的激发，在金属表面引入有机活性基团。
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