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公开(公告)号:CN101350385A
公开(公告)日:2009-01-21
申请号:CN200710119158.0
申请日:2007-07-17
Applicant: 北京大学
IPC: H01L33/00
Abstract: 本发明提供了一种GaN基自旋发光二极管(Spin-LED),具有如下结构:在导电衬底之上依次是P型欧姆接触电极、P型GaN层、InGaN/GaN多量子阱有源层、N型GaN层、掺杂过渡金属元素的ITO磁性层、N型欧姆接触电极。该GaN基Spin-LED是将ITO基磁性材料作为自旋注入源和现有GaN基LED照明技术结合起来制备的,相对于目前提出的GaMnN基Spin-LED的多项生长技术结合的繁琐制备程序,该方法将磁性层改在透明电极部分,制备方法简单易行,可灵活快捷地得到各种新型自旋发光二极管,并能有效地进行自旋注入效率的探测,同时还可望用于研制和设计其他各种自旋电子学器件。
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公开(公告)号:CN100555690C
公开(公告)日:2009-10-28
申请号:CN200710119158.0
申请日:2007-07-17
Applicant: 北京大学
IPC: H01L33/00
Abstract: 本发明提供了一种GaN基自旋发光二极管(Spin-LED),具有如下结构:在导电衬底之上依次是P型欧姆接触电极、P型GaN层、InGaN/GaN多量子阱有源层、N型GaN层、掺杂过渡金属元素的ITO磁性层、N型欧姆接触电极。该GaN基Spin-LED是将ITO基磁性材料作为自旋注入源和现有GaN基LED照明技术结合起来制备的,相对于目前提出的GaMnN基Spin-LED的多项生长技术结合的繁琐制备程序,该方法将磁性层改在透明电极部分,制备方法简单易行,可灵活快捷地得到各种新型自旋发光二极管,并能有效地进行自旋注入效率的探测,同时还可望用于研制和设计其他各种自旋电子学器件。
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公开(公告)号:CN100435281C
公开(公告)日:2008-11-19
申请号:CN200610001301.1
申请日:2006-01-17
Applicant: 北京大学
IPC: H01L21/205 , H01L43/12 , C23C16/455 , C23C16/52 , C23C16/34 , C23C16/00
Abstract: 本发明提供一种制备GaN基稀磁半导体材料的方法,属于自旋电子学领域。该方法在利用金属有机化合物气相外延方法(MOCVD)生长GaN的过程中,突然停止通入镓源;即停止生长GaN,转而通入过渡金属有机源,生长过渡元素掺杂薄层后,再切换通入镓源,生长GaN层,如此循环得到GaN基磁半导体薄膜材料。通过本发明可以获得高质量、具有室温GaN基磁性半导体薄膜材料,可直接应用到利用MOCVD生长GaN基自旋光电材料和器件中。
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公开(公告)号:CN1822320A
公开(公告)日:2006-08-23
申请号:CN200610001301.1
申请日:2006-01-17
Applicant: 北京大学
IPC: H01L21/205 , H01L43/12 , C23C16/455 , C23C16/52 , C23C16/34 , C23C16/00
Abstract: 本发明提供一种制备GaN基稀磁半导体材料的方法,属于自旋电子学领域。该方法在利用金属有机化合物气相外延方法(MOCVD)生长GaN的过程中,突然停止通入镓源;即停止生长GaN,转而通入过渡金属有机源,生长过渡元素掺杂薄层后,再切换通入镓源,生长GaN层,如此循环得到GaN基磁半导体薄膜材料。通过本发明可以获得高质量、具有室温GaN基磁性半导体薄膜材料,可直接应用到利用MOCVD生长GaN基自旋光电材料和器件中。
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