一种提高蓝、绿光半导体激光器电学特性的方法及器件

    公开(公告)号:CN114142344B

    公开(公告)日:2023-11-17

    申请号:CN202111384516.7

    申请日:2021-11-19

    Applicant: 北京大学

    Abstract: 本发明公开了一种提高蓝、绿光半导体激光器电学特性的方法及器件。本发明在蓝、绿光半导体激光器的上限制层的上、下表面各设置一层Al组分渐变的p‑AlGaN极化诱导层,通过双层极化诱导p型掺杂的的方式增加空穴注入,减少电子泄漏,提高有源区载流子复合效率,改善蓝、绿光激光器电学特性。本发明采用的处理方法具有工艺稳定、成本低廉、成品率高、设备简单易操作、适合产业化生产等优点。

    一种利用图形化金刚石材料改善Micro-LED通信性能的方法及器件

    公开(公告)号:CN114551653B

    公开(公告)日:2023-08-22

    申请号:CN202210065488.0

    申请日:2022-01-20

    Applicant: 北京大学

    Abstract: 本发明公开了一种利用图形化金刚石材料改善Micro‑LED通信性能的方法及器件。首先对Micro‑LED器件的蓝宝石、Si或SiC衬底进行减薄处理,在背面外延生长金刚石材料,在生长面外延生长图形化金刚石阵列,然后在图形化金刚石阵列上外延生长Micro‑LED器件的各结构,并进行器件后工艺流程至封装结束,得到强导热、高功效Micro‑LED器件。金刚石材料的引入显著提高了器件的导热性能,进而提升器件的发光效率,改善器件的通信性能。本发明采用的处理方式具有工艺稳定、可行性强、设备简单易操作等优点,适合产业化生产。

    一种利用图形化金刚石材料改善Micro-LED通信性能的方法及器件

    公开(公告)号:CN114551653A

    公开(公告)日:2022-05-27

    申请号:CN202210065488.0

    申请日:2022-01-20

    Applicant: 北京大学

    Abstract: 本发明公开了一种利用图形化金刚石材料改善Micro‑LED通信性能的方法及器件。首先对Micro‑LED器件的蓝宝石、Si或SiC衬底进行减薄处理,在背面外延生长金刚石材料,在生长面外延生长图形化金刚石阵列,然后在图形化金刚石阵列上外延生长Micro‑LED器件的各结构,并进行器件后工艺流程至封装结束,得到强导热、高功效Micro‑LED器件。金刚石材料的引入显著提高了器件的导热性能,进而提升器件的发光效率,改善器件的通信性能。本发明采用的处理方式具有工艺稳定、可行性强、设备简单易操作等优点,适合产业化生产。

    一种复合p型空穴注入层改善蓝绿光Micro-LED通信性能的方法及器件

    公开(公告)号:CN114551654B

    公开(公告)日:2023-08-22

    申请号:CN202210065490.8

    申请日:2022-01-20

    Applicant: 北京大学

    Abstract: 本发明公开了一种复合p型空穴注入层改善蓝绿光Micro‑LED通信性能的方法及器件。该蓝绿光Micro‑LED器件包括:衬底、AlN缓冲层、u‑GaN外延层、n型电子提供层、n型电子传输层、InGaN/GaN晶格过渡层、量子阱发光层、spacer外延层、电子阻挡层、复合p型空穴注入层、p型欧姆接触层和接触电极,其中复合p型空穴注入层由p‑AlGaN/p‑GaN超晶格和极化诱导p‑AlGaN组成。相比于传统p‑GaN,复合p型空穴注入层可以提高膜层空穴浓度和电导率,且空穴浓度的增加可以加速电子空穴复合速率,降低量子阱中的载流子寿命,从而增大Micro‑LED的调制带宽。此外,输出光功率及调制带宽的增加进一步提高了Micro‑LED的数据传输速率。

    一种复合p型空穴注入层改善蓝绿光Micro-LED通信性能的方法及器件

    公开(公告)号:CN114551654A

    公开(公告)日:2022-05-27

    申请号:CN202210065490.8

    申请日:2022-01-20

    Applicant: 北京大学

    Abstract: 本发明公开了一种复合p型空穴注入层改善蓝绿光Micro‑LED通信性能的方法及器件。该蓝绿光Micro‑LED器件包括:衬底、AlN缓冲层、u‑GaN外延层、n型电子提供层、n型电子传输层、InGaN/GaN晶格过渡层、量子阱发光层、spacer外延层、电子阻挡层、复合p型空穴注入层、p型欧姆接触层和接触电极,其中复合p型空穴注入层由p‑AlGaN/p‑GaN超晶格和极化诱导p‑AlGaN组成。相比于传统p‑GaN,复合p型空穴注入层可以提高膜层空穴浓度和电导率,且空穴浓度的增加可以加速电子空穴复合速率,降低量子阱中的载流子寿命,从而增大Micro‑LED的调制带宽。此外,输出光功率及调制带宽的增加进一步提高了Micro‑LED的数据传输速率。

    一种提高蓝、绿光半导体激光器电学特性的方法及器件

    公开(公告)号:CN114142344A

    公开(公告)日:2022-03-04

    申请号:CN202111384516.7

    申请日:2021-11-19

    Applicant: 北京大学

    Abstract: 本发明公开了一种提高蓝、绿光半导体激光器电学特性的方法及器件。本发明在蓝、绿光半导体激光器的上限制层的上、下表面各设置一层Al组分渐变的p‑AlGaN极化诱导层,通过双层极化诱导p型掺杂的的方式增加空穴注入,减少电子泄漏,提高有源区载流子复合效率,改善蓝、绿光激光器电学特性。本发明采用的处理方法具有工艺稳定、成本低廉、成品率高、设备简单易操作、适合产业化生产等优点。

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