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公开(公告)号：CN116040576A
公开(公告)日：2023-05-02
申请号：CN202310034814.6
申请日：2023-01-10
Applicant: 北京大学
Abstract: 本发明涉及一种柔性材料的纳米通道及其母模的制备方法。方法包括：在硅基衬底上形成光刻胶；对光刻胶进行曝光和显影，在光刻胶中形成预设版图的沟道，所述沟道贯穿所述光刻胶至硅基衬底；然后在所述光刻胶上方形成硬掩膜层，所述硬掩膜层填充所述沟道；之后剥离去除光刻胶，最后在所述硬掩膜层的遮挡下刻蚀硅基衬底。本发明填补了柔性材料纳米通道专一性母模的空白，并且具有较高的精度，耐磨损且脱模容易，适合基于柔性材料的纳米通道的批量生产，并且该方法对不同纳米图形的适用性强。
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