金属有机物气相外延制备氮化物单晶薄膜的装置与方法

    公开(公告)号:CN1127804A

    公开(公告)日:1996-07-31

    申请号:CN95101275.4

    申请日:1995-01-27

    Applicant: 北京大学

    Abstract: 本发明提出了一种用于生长GaN及其有关化合物单晶薄膜的装置及方法。同轴双管分流器把NH3气与III族有机源分别输运,可方便地调整它们的混合点,使两种气体快速混合并层流扩展,最大限度地减小气相副反应;气流压缩型MOVPE反应系统,可获得高质量均匀的GaN及其有关化合物单晶薄膜,。提高材料的利用效率达6-7倍。可用于GaN-based兰光LED和LD的生产和研究,亦可用于GaN高温,大功率电子器件等方面的应用研究。

    金属有机物气相外延制备氮化物单晶薄膜的方法及其装置

    公开(公告)号:CN1037283C

    公开(公告)日:1998-02-04

    申请号:CN95101275.4

    申请日:1995-01-27

    Applicant: 北京大学

    Abstract: 本发明提出了一种用于生长氮化镓(GaN)及其有关化合物单晶薄膜的方法及其装置。同轴双管分流器把NH3气与Ⅲ族有机源分别输运,可方便地调整它们的混合点,使两种气体快速混合并层流扩展,最大限度地减小气相副反应;气流压缩型MOVPE反应系统,解决了热浮力问题,可获得高质量均匀的氮化镓(GaN)及其有关化合物单晶薄膜,可用于氮化镓(GaN)-based兰光LED和LD的生产和研究。

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