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公开(公告)号：CN101126148A
公开(公告)日：2008-02-20
申请号：CN200710119622.6
申请日：2007-07-27
Applicant: 北京印刷学院
Abstract: 一种具有阻隔兼防护功能的纳米薄膜及其制做方法属于防护薄膜及其制做技术领域，主要是提高防护薄膜性能；采用具有磁场增强装置的等离子体装置，以等离子体化学气相沉积法，以有机硅化学单体的气体为工作气体，沉积聚合在基材表面形成所述纳米薄膜，其厚度为1～1000nm，对氧气的透过率小于50ml/cm2/24h，对水蒸汽的透过率小于10g/m2/24h；磁场增强装置为永久性磁体组成的磁块组合体(12)，由与左、右转辊电极(2)、(3)相应的外、内磁块组合体(13)、(14)组成，能提高等离子体区内等离子体的密度；所述纳米薄膜致密度高，阻隔性能好，不易脱落，耐腐蚀，广泛适用于食品、药品包装及功能器件等的保护层；制做方法尤其适合于基材连续卷绕式生产工艺。
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公开(公告)号：CN101126148B
公开(公告)日：2010-04-21
申请号：CN200710119622.6
申请日：2007-07-27
Applicant: 北京印刷学院
Abstract: 一种具有阻隔兼防护功能的纳米薄膜及其制做方法属于防护薄膜及其制做技术领域，主要是提高防护薄膜性能；采用具有磁场增强装置的等离子体装置，以等离子体化学气相沉积法，以有机硅化学单体的气体为工作气体，沉积聚合在基材表面形成所述纳米薄膜，其厚度为1～1000nm，对氧气的透过率小于50ml/cm2/24h，对水蒸汽的透过率小于10g/m2/24h；磁场增强装置为永久性磁体组成的磁块组合体(12)，由与左、右转辊电极(2)、(3)相应的外、内磁块组合体(13)、(14)组成，能提高等离子体区内等离子体的密度；所述纳米薄膜致密度高，阻隔性能好，不易脱落，耐腐蚀，广泛适用于食品、药品包装及功能器件等的保护层；制做方法尤其适合于基材连续卷绕式生产工艺。
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公开(公告)号：CN201066954Y
公开(公告)日：2008-05-28
申请号：CN200720169925.4
申请日：2007-07-27
Applicant: 北京印刷学院
IPC: H05H1/10
CPC classification number: Y02E30/126
Abstract: 具有磁场增强装置的等离子体装置属于等离子体应用技术领域，用于提高等离子体区内等离子体的密度；采用磁场增强装置，将等离子体约束在一定的磁场区域内；磁场增强装置为与电极结构配套的永久性磁体组成的磁块组合体(12)，引入磁场的强度为10～1000mT；在适宜基材连续卷绕工艺的等离子体化学气相沉积装置中，磁块组合体(12)，由与左、右转辊电极(2)、(3)相应的外、内磁块组合体(13)、(14)组成；有益效果，用于等离子体化学气相沉积，可于基材表面沉积聚合成纳米级厚的功能保护膜，致密度高，阻隔性好；用于大气放电装置，对物料改性处理及对物体表面改性处理；能提高等离子体的应用性能和效果，并且速度快。
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公开(公告)号：CN222024160U
公开(公告)日：2024-11-19
申请号：CN202323628629.4
申请日：2023-12-29
Applicant: 北京印刷学院
Abstract: 本实用新型公开了一种基于等离子放电的高效智能水处理设备，包括：等离子发生器、废水处理室、外部腔体、数控高压电源、供气装置，所述等离子发生器位于废水处理室正上方，所述废水处理室内部置有用于储存废液的储液池，所述储液池的侧面与底面包覆有冷凝装置，所述供气装置能在所述等离子发生器中形成自上而下稳定的气流来形成滑动弧放电，所述等离子发生器、废水处理室、数控高压电源集成于外部腔体中。本实用新型涉及等离子体水处理技术领域，通过滑动弧等离子直接接触废液与将活性气体导入废液两种方式结合，并引入智能传感器来控制液位、温度等参数。可以实现低成本、小空间条件下，高效利用活性物质，对目标废液进行有效处理。
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