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公开(公告)号:CN119374788A
公开(公告)日:2025-01-28
申请号:CN202411494162.5
申请日:2024-10-24
Applicant: 北京卫星环境工程研究所
Abstract: 本申请涉及真空检漏技术领域,尤其涉及一种标准漏孔及其制备方法,所述标准漏孔包括第一阻气层、渗透层和第二阻气层,其中,第一阻气层与渗透层的上表面贴合设置,第一阻气层设置有与渗透层连通的进气口;第二阻气层与渗透层的下表面贴合设置,以使渗透层夹持在第一阻气层和第二阻气层之间,示漏气体在渗透层中横向流动。本申请中,通过在渗透层的上下两侧设置第一阻气层和第二阻气层,可以控制示漏气体在渗透层中横向流动,相对于示漏气体在渗透层中纵向流动,更有利于调整渗透层的厚度从毫米量级降低至纳米量级,从而显著降低标准漏孔的漏率下限。
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公开(公告)号:CN119643067A
公开(公告)日:2025-03-18
申请号:CN202411794922.4
申请日:2024-12-09
Applicant: 北京卫星环境工程研究所
IPC: G01M3/20
Abstract: 本发明涉及真空标准漏孔技术领域,尤其涉及一种真空标准漏孔,包括上连接件、下连接件、挡片、上铟圈、下铟圈和铟块,从进气口流入的氦气或其他示漏气体依次经上铟环的内壁、上铟环的内部、上铟环的底面、铟块的顶端面、铟块的底端面、下铟环的顶面、下铟环的内部及下铟环的内壁后,从出气口流出。整体上,借助上铟环、铟块和下铟环构建示漏气体的微量渗透通道,相较于示漏气体直接沿着渗透膜所在面的垂直方向进行渗透的方式,大大地延长了进行微量渗透的路径,同时,可使部分流入渗透通道内的示漏气体扩散至大气中进行损耗。
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