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公开(公告)号：CN117810111A
公开(公告)日：2024-04-02
申请号：CN202211165916.3
申请日：2022-09-23
Applicant: 北京北方华创微电子装备有限公司
Inventor： 杨建姣
IPC: H01L21/67 , H01L21/687
Abstract: 本申请提供一种紫外光照装置、控制方法和紫外光固化设备，其通过主电机驱动带轮组件转动，皮带在带轮组件间传动，带轮组件转动的同时带动光照机构转动。在皮带的张紧度过紧或过松时，调节组件可带动张紧轮移动，实现皮带张紧度的实时调节，避免皮带与带轮组件之间发生打滑或跳齿，进而保证紫外光均匀照射晶圆表面，减少了晶圆在紫外光固化过程中产生表面异常，保证了产品质量。
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公开(公告)号：CN111540695B
公开(公告)日：2023-10-13
申请号：CN202010377651.8
申请日：2020-05-07
Applicant: 北京北方华创微电子装备有限公司
Inventor： 杨建姣
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明提供一种旋转组件，包括第一旋转件、第二旋转件、旋转驱动部和主感应机构，所述旋转驱动部用于驱动所述第一旋转件沿自身旋转轴转动，并驱动所述第二旋转件沿自身旋转轴同步转动，所述主感应机构用于检测所述第一旋转件的旋转位置，并在所述第一旋转件处于初始位置时生成初始位置确认信号，所述旋转组件还包括辅助感应机构，所述辅助感应机构用于检测所述第二旋转件的旋转位置，并在所述第二旋转件处于预设位置时生成位置确认信号。本发明提供的旋转组件结构能够提高旋转件转动角度控制的精确性和半导体工艺设备中其余组件的安全性。本发明还提供一种半导体工艺设备。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN114242619A
公开(公告)日：2022-03-25
申请号：CN202111524293.X
申请日：2021-12-14
Applicant: 北京北方华创微电子装备有限公司
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明公开一种半导体工艺设备及其控制方法。涉及半导体制造技术领域。本发明所述的半导体工艺设备包括至少一个灯箱、工艺气体循环管道和与灯箱一一对应的至少一个风压检测组件。其中，灯箱具有灯腔以及与灯腔连通的进风口和出风口，工艺气体循环管道的第一端与进风口连通，工艺气体循环管道的第二端与出风口连通，且工艺气体循环管道设置有第一检测口。风压检测组件包括高压检测口和低压检测口，高压检测口与对应的灯腔内部连通，低压检测口与第一检测口连通。该方案能解决半导体工艺设备内风压检测精度低的问题。
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公开(公告)号：CN113161265A
公开(公告)日：2021-07-23
申请号：CN202110412183.8
申请日：2021-04-16
Applicant: 北京北方华创微电子装备有限公司
Inventor： 杨建姣
Abstract: 本发明提供一种气体浓度控制方法、气体浓度控制装置及半导体设备，其中，气体浓度控制方法，用于半导体工艺中，包括：在半导体工艺开始前，将待控制气体的浓度控制在预设的目标浓度值；在半导体工艺过程中，对待控制气体的实际浓度值进行实时检测，判断实际浓度值是否大于预设的目标浓度值；若是，则根据预设的待控制气体的目标浓度值与补偿气体的目标流量值的第一对应关系，获得与预设的目标浓度值对应的第一目标流量值；控制补偿气体以第一目标流量值进行补偿。本发明提供的气体浓度控制方法、气体浓度控制装置及半导体设备，能够提高气体浓度控制的实时性，提高半导体工艺稳定性及安全性。
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公开(公告)号：CN111540695A
公开(公告)日：2020-08-14
申请号：CN202010377651.8
申请日：2020-05-07
Applicant: 北京北方华创微电子装备有限公司
Inventor： 杨建姣
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明提供一种旋转组件，包括第一旋转件、第二旋转件、旋转驱动部和主感应机构，所述旋转驱动部用于驱动所述第一旋转件沿自身旋转轴转动，并驱动所述第二旋转件沿自身旋转轴同步转动，所述主感应机构用于检测所述第一旋转件的旋转位置，并在所述第一旋转件处于初始位置时生成初始位置确认信号，所述旋转组件还包括辅助感应机构，所述辅助感应机构用于检测所述第二旋转件的旋转位置，并在所述第二旋转件处于预设位置时生成位置确认信号。本发明提供的旋转组件结构能够提高旋转件转动角度控制的精确性和半导体工艺设备中其余组件的安全性。本发明还提供一种半导体工艺设备。
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公开(公告)号：CN119446955A
公开(公告)日：2025-02-14
申请号：CN202310961205.5
申请日：2023-08-01
Applicant: 北京北方华创微电子装备有限公司
IPC: H01L21/67
Abstract: 本申请公开一种光固化装置及其控制方法、半导体工艺设备，所公开的光固化装置包括驱动机构(10)、光源装置(20)、第一感应部(30)和控制器(40)，光源装置(20)与驱动机构(10)相连，控制器(40)与驱动机构(10)相连，控制器(40)用于控制驱动机构(10)驱动光源装置(20)在第一位置与第二位置之间往复转动，第一感应部(30)用于在光源装置(20)转动至第三位置时生成第一信号，第三位置位于第一位置与第二位置之间；控制器(40)与第一感应部(30)相连，在光源装置(20)在第一位置与第二位置之间往复转动的过程中，控制器(40)在未接收到第一信号的情况下，控制驱动机构(10)关闭。
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公开(公告)号：CN113161265B
公开(公告)日：2024-04-16
申请号：CN202110412183.8
申请日：2021-04-16
Applicant: 北京北方华创微电子装备有限公司
Inventor： 杨建姣
Abstract: 本发明提供一种气体浓度控制方法、气体浓度控制装置及半导体设备，其中，气体浓度控制方法，用于半导体工艺中，包括：在半导体工艺开始前，将待控制气体的浓度控制在预设的目标浓度值；在半导体工艺过程中，对待控制气体的实际浓度值进行实时检测，判断实际浓度值是否大于预设的目标浓度值；若是，则根据预设的待控制气体的目标浓度值与补偿气体的目标流量值的第一对应关系，获得与预设的目标浓度值对应的第一目标流量值；控制补偿气体以第一目标流量值进行补偿。本发明提供的气体浓度控制方法、气体浓度控制装置及半导体设备，能够提高气体浓度控制的实时性，提高半导体工艺稳定性及安全性。
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