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发明公开
一种石墨烯薄膜及其制备方法审中-实审

公开(公告)号：CN119349561A

公开(公告)日：2025-01-24

申请号：CN202411265436.3

申请日：2024-09-10

Applicant: 北京化工大学

Inventor： 张好斌 , 何萍 , 金蒙 , 殷光 , 木弘霏 , 于中振

IPC: C01B32/184 , B82Y40/00

Abstract: 本发明涉及一种石墨烯薄膜及其制备方法。所述石墨烯薄膜由还原氧化石墨烯组成，并且所述还原氧化石墨烯具有可控的表面官能团和原子结构，其中，所述还原氧化石墨烯薄膜中，主要包含碳、氧、卤、氮原子。所述氧原子主要以氧官能团形式存在，包括羟基、环氧基和羰基，所述羟基、环氧基含量在11～32％，羰基在3.6～13.6％，卤原子和氮原子含量在1.5～3.9％。本发明以实现氧化石墨烯表面官能团及原子结构的调节，综合控制了石墨烯化学结构，为石墨烯薄膜的光学性质的调控提供了新的策略，从而实现了石墨烯红外辐射特性的调制。

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