一种真空栽培系统
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101480144A

    公开(公告)日:2009-07-15

    申请号:CN200910077337.1

    申请日:2009-02-18

    Abstract: 本发明涉及一种真空栽培系统,具体涉及一种在栽培室内保持低于标准大气压的气压环境和一定气体循环流量的真空栽培系统,该系统包括密闭的栽培室;该栽培室的出气口连接一控制气体循环流量的气体流量控制器;机械泵,该机械泵与所述气体流量控制器之间连接有一控制该栽培室内气体流动的气阀;若干控压管,若干控压管内注有用于所述栽培室内部真空度的液体,所述若干控压管通过若干导气管串联连接,且一端连接大气的导气管的高度大于控压管内液体的高度,所述若干控压管连接于所述栽培室的进气口。该系统既能保持栽培室内为恒定的真空度,又能同时实现栽培室内的气体以一定流量不停的循环流动,并可控制栽培室内气流的方向。

    一种真空栽培系统
    2.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101480144B

    公开(公告)日:2010-06-09

    申请号:CN200910077337.1

    申请日:2009-02-18

    Abstract: 本发明涉及一种真空栽培系统,具体涉及一种在栽培室内保持低于标准大气压的气压环境和一定气体循环流量的真空栽培系统,该系统包括密闭的栽培室;该栽培室的出气口连接一控制气体循环流量的气体流量控制器;机械泵,该机械泵与所述气体流量控制器之间连接有一控制该栽培室内气体流动的气阀;若干控压管,若干控压管内注有用于所述栽培室内部真空度的液体,所述若干控压管通过若干导气管串联连接,且一端连接大气的导气管的高度大于控压管内液体的高度,所述若干控压管连接于所述栽培室的进气口。该系统既能保持栽培室内为恒定的真空度,又能同时实现栽培室内的气体以一定流量不停的循环流动,并可控制栽培室内气流的方向。

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