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公开(公告)号：CN116805330A
公开(公告)日：2023-09-26
申请号：CN202310866985.5
申请日：2023-07-14
Applicant: 北京信息科技大学
Abstract: 本发明公开了一种由聚焦堆栈重建深度的方法和装置，其包括：步骤101，通过改变物距或相距的方式，采集一组聚焦深度不同的图像序列，获得聚焦堆栈；步骤102，使用测度算子计算初始的聚焦测度体数据u；其中，聚焦测度体数据包括聚焦堆栈中每个像素的聚焦测度；步骤103，根据聚焦堆栈与聚焦测度体数据u的数据结构之间的相似程度，计算聚焦堆栈与聚焦测度体数据的结构一致性S；步骤104，结合结构一致性S，利用三维自适应加权全变分模型优化聚焦测度体数据u，得到优化后的聚焦堆栈体数据u；步骤105，根据优化后的聚焦测度体数据，获得深度图。本发明能够有效解决聚焦堆栈估计深度中弱纹理区域和遮挡区域深度线索丢失问题，进而提升重建深度的精度。
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