一种基于条件VAE模型的光场角度超分辨方法

    公开(公告)号:CN119151783A

    公开(公告)日:2024-12-17

    申请号:CN202410944662.8

    申请日:2024-07-15

    Abstract: 本发明涉及一种基于条件VAE模型的光场角度超分辨方法,属于计算成像、机器视觉与数字图像处理技术领域,包括如下步骤:通过采集视点平面等间隔稀疏的光场子孔径图像阵列LFγ和中心子孔径图像LF0分别输入视差估计模块(P)和特征提取模块(F),获得场景初始视差图和不同层级的中心子孔径特征;本发明可以不依赖大规模的高分辨率训练数据集,可对全部光场子孔径图像同步做角度域的超分辨重构,设计一种基于光场数据的空角一致性混合损失函数,使新模型在重构角度高分辨率的子孔径图像时能够利用耦合在子孔径图像种的视差信息,在合成和真实数据集上数值实验结果接近有监督方法,同时能够满足基于深度学习的方法对光场角度域的超分辨。

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