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公开(公告)号:CN103280463A
公开(公告)日:2013-09-04
申请号:CN201310195118.X
申请日:2013-05-23
Applicant: 北京交通大学
IPC: H01L29/786 , H01L29/10 , H01L29/24 , H01L21/336
Abstract: 一种氧化锌基薄膜晶体管及其制作方法,涉及一种透明薄膜晶体管。解决了薄膜晶体管迁移率低的问题。该薄膜晶体管的沟道层为ZnLixNyO或ZnMgzLixNyO;ZnLixNyO的靶包括ZnO、Li2O和Zn3N2,x=0~0.1,y=0~0.1,厚度为20~60nm;ZnMgzLixNyO靶包括ZnO、MgO、Li2O和Zn3N2,x=0~0.1,y=0~0.1,z=0.01~0.1厚度为20~60nm。用磁控溅射法制备沟道层,溅射功率为70~200W,氧/氩压比为0~40%,生长温度为室温~500℃,退火温度为350~500℃或760~860℃。该薄膜晶体管主要用于平板显示和透明电路。
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公开(公告)号:CN103258859A
公开(公告)日:2013-08-21
申请号:CN201310195082.5
申请日:2013-05-23
Applicant: 北京交通大学
IPC: H01L29/786
Abstract: 一种氧化铟基薄膜晶体管及其制作方法,涉及一种透明薄膜晶体管。解决了薄膜晶体管迁移率低的问题。该薄膜晶体管的沟道层为InZnxLiyNzO;InZnxLiyNzO的靶包括In2O3、ZnO、Li2O和Zn3N2,x=0~2,y=0~0.1,Z=0~0.1,厚度为20~60nm。用磁控溅射法制备沟道层,溅射功率为70~200W,氧/氩压比为0~40%,生长温度为室温~500℃,退火温度为350~500℃或760~960℃。该薄膜晶体管主要用于平板显示和透明电路。
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公开(公告)号:CN103280463B
公开(公告)日:2016-07-06
申请号:CN201310195118.X
申请日:2013-05-23
Applicant: 北京交通大学
IPC: H01L29/786 , H01L29/10 , H01L29/24 , H01L21/336
Abstract: 一种氧化锌基薄膜晶体管及其制作方法,涉及一种透明薄膜晶体管。解决了薄膜晶体管迁移率低的问题。该薄膜晶体管的沟道层为ZnLixNyO或ZnMgzLixNyO;ZnLixNyO的靶包括ZnO、Li2O和Zn3N2,0
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