一种真空下温度传感器校准用均温系统

    公开(公告)号:CN103115699A

    公开(公告)日:2013-05-22

    申请号:CN201310048769.6

    申请日:2013-02-06

    Abstract: 一种真空下温度传感器校准用均温系统,所述均温系统既可以实现热辐射式测温,又可以实现热传导式测温,从而有利于实现真空下温度传感器校准,其特征在于,包括恒温槽,所述恒温槽内有恒温介质,所述恒温槽的槽口上设置有覆盖所述槽口的吊固平台,所述吊固平台将均温真空室吊装固定在所述恒温槽内的恒温介质中,所述均温真空室的上方与弯管的一端连接,所述弯管从所述吊固平台穿越,所述弯管的另一端设置有连接真空抽气系统的接口,所述均温真空室的外壁设置有铜管,所述铜管的底端被封堵,所述铜管的顶端穿越在所述吊固平台之外,所述均温真空室内设置有绝热传感器固定支架。

    TDLAS温度测量与校准用真空腔

    公开(公告)号:CN103134773A

    公开(公告)日:2013-06-05

    申请号:CN201310048774.7

    申请日:2013-02-06

    Abstract: TDLAS温度测量与校准用真空腔,其特征在于,包括通过透射镜片隔开的上真空室和下真空室,所述下真空室的底部设置有反射镜片,所述下真空室的侧壁分别设置有试验气体充气口和真空获得系统接口,所述试验气体充气口连接第二充气阀,所述真空获得系统接口连接第二隔断阀,所述上真空室分别内设有准直器安装架和光电探测器安装架,所述上真空室的侧壁分别设置有光纤引入口、抽真空口和氩气充气口。

    TDLAS温度测量与校准用真空腔

    公开(公告)号:CN103134773B

    公开(公告)日:2015-08-05

    申请号:CN201310048774.7

    申请日:2013-02-06

    Abstract: TDLAS温度测量与校准用真空腔,其特征在于,包括通过透射镜片隔开的上真空室和下真空室,所述下真空室的底部设置有反射镜片,所述下真空室的侧壁分别设置有试验气体充气口和真空获得系统接口,所述试验气体充气口连接第二充气阀,所述真空获得系统接口连接第二隔断阀,所述上真空室分别内设有准直器安装架和光电探测器安装架,所述上真空室的侧壁分别设置有光纤引入口、抽真空口和氩气充气口。

    一种真空下温度传感器校准用均温系统

    公开(公告)号:CN103115699B

    公开(公告)日:2014-09-10

    申请号:CN201310048769.6

    申请日:2013-02-06

    Abstract: 一种真空下温度传感器校准用均温系统,所述均温系统既可以实现热辐射式测温,又可以实现热传导式测温,从而有利于实现真空下温度传感器校准,其特征在于,包括恒温槽,所述恒温槽内有恒温介质,所述恒温槽的槽口上设置有覆盖所述槽口的吊固平台,所述吊固平台将均温真空室吊装固定在所述恒温槽内的恒温介质中,所述均温真空室的上方与弯管的一端连接,所述弯管从所述吊固平台穿越,所述弯管的另一端设置有连接真空抽气系统的接口,所述均温真空室的外壁设置有铜管,所述铜管的底端被封堵,所述铜管的顶端穿越在所述吊固平台之外,所述均温真空室内设置有绝热传感器固定支架。

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