公开(公告)号：CN102504705A

公开(公告)日：2012-06-20

申请号：CN201110314587.X

申请日：2011-10-17

Applicant: 刘玉林

Inventor： 刘玉林 ,  梁遂芳 ,  汪心想

IPC: C09G1/02

Abstract: 本发明公开一种光通讯ZrO2陶瓷插芯表面CMP抛光液及其制备方法，抛光液组成为：铈的氧化物0.5～12%、氧化铝0.1～4%、润湿调节剂0.01～0.1%、分散剂0.05～2%、分散稳定剂0.01～4%、辅助表面活性剂0.005～0.5%，余量为去离子水。制备时将铈的氧化物和氧化铝加入到搅拌分散器中，加入部分去离子水、润湿调节剂，搅拌均匀，加入其余添加剂和余量去离子水，继续搅拌，调节pH值至2～5，经超声波分散后即可。本发明的抛光液解决了传统CMP技术中使用单一无机磨料抛光效率和抛光精度不协调的矛盾，达到单一磨料无法达到的抛光效果，不仅提高了抛光效率，同时提高了抛光精度，具有良好的应用性能。

公开(公告)号：CN102503546B

公开(公告)日：2013-10-09

申请号：CN201110314580.8

申请日：2011-10-17

Applicant: 刘玉林

Inventor： 刘玉林 ,  梁遂芳 ,  汪心想 ,  张慧敏 ,  赵怡丽 ,  韦贵朋 ,  王静

IPC: C04B41/50

Abstract: 本发明公开了一种热压烧结金刚石工具用石墨模具抗氧化浸渍剂及其配制方法和处理方法，本发明抗氧化浸渍剂是由复合磷酸盐、耐高温固化剂、抗压增强剂、pH调节剂和水配制而成，首先在复合磷酸盐中加入水，加热搅拌充分溶解得到均匀透明液体，然后在透明液体中加入耐高温固化剂和抗压增强剂，继续加热搅拌均匀，最后加入pH调节剂，调节混合液体的pH值至1～3，得到抗氧化浸渍剂溶液。利用本发明配制而成的抗氧化浸渍剂溶液对石墨模具进行浸渍抗氧化处理，处理后测试石墨模具的相关性能。利用本发明抗氧化浸渍剂处理后的石墨模具，基本保持了石墨材料自身的电学特性，电阻率不大于20Ωmm2/m，气孔率降低了50%，在800℃以下基本不氧化，抗压强度明显提高。

公开(公告)号：CN102503546A

公开(公告)日：2012-06-20

申请号：CN201110314580.8

申请日：2011-10-17

Applicant: 刘玉林

Inventor： 刘玉林 ,  梁遂芳 ,  汪心想

IPC: C04B41/50

Abstract: 本发明公开了一种热压烧结金刚石工具用石墨模具抗氧化浸渍剂及其配制方法和处理方法，本发明抗氧化浸渍剂是由复合磷酸盐、耐高温固化剂、抗压增强剂、pH调节剂和水配制而成，首先在复合磷酸盐中加入水，加热搅拌充分溶解得到均匀透明液体，然后在透明液体中加入耐高温固化剂和抗压增强剂，继续加热搅拌均匀，最后加入pH调节剂，调节混合液体的pH值至1～3，得到抗氧化浸渍剂溶液。利用本发明配制而成的抗氧化浸渍剂溶液对石墨模具进行浸渍抗氧化处理，处理后测试石墨模具的相关性能。利用本发明抗氧化浸渍剂处理后的石墨模具，基本保持了石墨材料自身的电学特性，电阻率不大于20Ωmm2/m，气孔率降低了50%，在800℃以下基本不氧化，抗压强度明显提高。