公开(公告)号：CN101650531A

公开(公告)日：2010-02-17

申请号：CN200910165089.6

申请日：2005-04-01

Applicant: 出光兴产株式会社

Inventor： 石井宏寿 ,  大和田贵纪 ,  芝崎祐二 ,  上田充

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/00

Abstract: 本发明提供一种光致抗蚀剂组合物，该组合物含有用酸性水溶液洗涤并且用离子交换树脂处理后的、由下述通式(2)所示的感放射线性有机化合物构成的光致抗蚀剂基材；光酸发生剂或者光碱发生剂；以及猝灭剂；式中，A为由下式所示的有机基团；B、C和D相互独立地为叔丁氧基羰基甲基、叔丁氧基羰基、或者由下式所示的有机基团；P为碳数6～20的(r+1)价的芳香族基团，Q为碳数4～30的有机基团，r为1～10的整数，s为0～10的整数，X、Y和Z相互独立地为单键或者醚键，l+m+n＝3或者8。

公开(公告)号：CN1938259A

公开(公告)日：2007-03-28

申请号：CN200580010812.3

申请日：2005-04-01

Applicant: 出光兴产株式会社

Inventor： 石井宏寿 ,  大和田贵纪 ,  芝崎祐二 ,  上田充

IPC: C07C67/31 ,  C07C69/712 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

Abstract: 本发明提供一种由下述通式(1)表示的间苯二酚杯芳烃化合物：(见图)[式中，R表示2－甲基－2－金刚烷氧基羰基甲基。]上述通式(I)所示的间苯二酚杯芳烃化合物作为光致抗蚀剂基材、特别是作为基于远紫外线或电子射线的超微细加工时使用的光致抗蚀剂基材是有用的。