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公开(公告)号：CN1685079A
公开(公告)日：2005-10-19
申请号：CN03822759.2
申请日：2003-09-26
Applicant: 凸版印刷株式会社
IPC: C23C16/505 , C23C16/52 , C23C16/42 , C08J7/06
CPC classification number: C23C16/52 , C23C16/045
Abstract: 在将含有单体气体和氧化性反应气体的混合气体等离子化，在基材的表面上形成氧化物组成的薄膜的薄膜成膜方法中，具有一边使所述的单体气体与所述的反应气体的供给流量比发生变化，使所述的供给流量比至少包括特定范围，一边将混合气体等离子化的特征。采用这种薄膜成膜方法和成膜装置，能够没有波动和稳定地形成具有气体阻挡性等性能的薄膜。而且，本发明还提供了一种监视方法，其特征在于，在使薄膜成膜之际测定从等离子放出的氢α射线和氧射线的强度，将各强度与可以得到所需膜质的薄膜时各射线的标准强度作对比，判定是否使所需膜质的薄膜成膜。利用所述的监视方法和薄膜成膜装置，能够在过程中判断成膜的薄膜是否具有所需的膜质。
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公开(公告)号：CN100445423C
公开(公告)日：2008-12-24
申请号：CN03822759.2
申请日：2003-09-26
Applicant: 凸版印刷株式会社
IPC: C23C16/505 , C23C16/52 , C23C16/42 , C08J7/06
Abstract: 在将含有单体气体和氧化性反应气体的混合气体等离子化，在基材的表面上形成氧化物组成的薄膜的薄膜成膜方法中，具有一边使所述的单体气体与所述的反应气体的供给流量比发生变化，使所述的供给流量比至少包括特定范围，一边将混合气体等离子化的特征。采用这种薄膜成膜方法和成膜装置，能够没有波动和稳定地形成具有气体阻挡性等性能的薄膜。而且，本发明还提供了一种监视方法，其特征在于，在使薄膜成膜之际测定从等离子放出的氢α射线和氧射线的强度，将各强度与可以得到所需膜质的薄膜时各射线的标准强度作对比，判定是否使所需膜质的薄膜成膜。利用所述的监视方法和薄膜成膜装置，能够在过程中判断成膜的薄膜是否具有所需的膜质。
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公开(公告)号：CN101230452B
公开(公告)日：2010-12-08
申请号：CN200710308101.5
申请日：2003-09-26
Applicant: 凸版印刷株式会社
Abstract: 在将含有单体气体和氧化性反应气体的混合气体等离子化，在基材的表面上形成氧化物组成的薄膜的薄膜成膜方法中，具有一边使所述的单体气体与所述的反应气体的供给流量比发生变化，使所述的供给流量比至少包括特定范围，一边将混合气体等离子化的特征。采用这种薄膜成膜方法和成膜装置，能够没有波动和稳定地形成具有气体阻挡性等性能的薄膜。而且，本发明还提供了一种监视方法，其特征在于，在使薄膜成膜之际测定从等离子放出的氢α射线和氧射线的强度，将各强度与可以得到所需膜质的薄膜时各射线的标准强度作对比，判定是否使所需膜质的薄膜成膜。利用所述的监视方法和薄膜成膜装置，能够在过程中判断成膜的薄膜是否具有所需的膜质。
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公开(公告)号：CN101230452A
公开(公告)日：2008-07-30
申请号：CN200710308101.5
申请日：2003-09-26
Applicant: 凸版印刷株式会社
Abstract: 在将含有单体气体和氧化性反应气体的混合气体等离子化，在基材的表面上形成氧化物组成的薄膜的薄膜成膜方法中，具有一边使所述的单体气体与所述的反应气体的供给流量比发生变化，使所述的供给流量比至少包括特定范围，一边将混合气体等离子化的特征。采用这种薄膜成膜方法和成膜装置，能够没有波动和稳定地形成具有气体阻挡性等性能的薄膜。而且，本发明还提供了一种监视方法，其特征在于，在使薄膜成膜之际测定从等离子放出的氢α射线和氧射线的强度，将各强度与可以得到所需膜质的薄膜时各射线的标准强度作对比，判定是否使所需膜质的薄膜成膜。利用所述的监视方法和薄膜成膜装置，能够在过程中判断成膜的薄膜是否具有所需的膜质。
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