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公开(公告)号：CN112358194A
公开(公告)日：2021-02-12
申请号：CN202011275352.X
申请日：2020-11-16
Applicant: 凯盛科技集团有限公司 , 凯盛科技股份有限公司蚌埠华益分公司
IPC: C03C15/00
Abstract: 本发明提供一种极薄玻璃刻蚀减薄装置及方法，包括：若干玻璃夹持架，若干所述玻璃夹持架包括两端设置的夹持盘，两侧所述夹持盘的瀑布流挡板槽内通过挡流板相连接；统一操动机构，若干所述活动轴均活动插设在同一根牵拉连杆上；减薄刻蚀箱，若干所述玻璃夹持架两端通过密封轴承活动安装在减薄刻蚀箱两侧；瀑布流喷淋板，所述瀑布流喷淋板底部阵列式安装有若干喷淋头，本发明通过若干玻璃夹持架的夹持，能够进行直立式浸泡刻蚀和瀑布流式刻蚀法，通过在待检测玻璃两侧安装挡流板，使得待刻蚀玻璃两侧与挡流板形成的缝隙处，克服了瀑布流法无法进行双侧刻蚀的缺陷，大大提高了刻蚀的质量，提高了装置的使用范围。
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公开(公告)号：CN112358194B
公开(公告)日：2022-06-17
申请号：CN202011275352.X
申请日：2020-11-16
Applicant: 凯盛科技集团有限公司 , 凯盛科技股份有限公司蚌埠华益分公司
IPC: C03C15/00
Abstract: 本发明提供一种极薄玻璃刻蚀减薄装置及方法，包括：若干玻璃夹持架，若干所述玻璃夹持架包括两端设置的夹持盘，两侧所述夹持盘的瀑布流挡板槽内通过挡流板相连接；统一操动机构，若干所述活动轴均活动插设在同一根牵拉连杆上；减薄刻蚀箱，若干所述玻璃夹持架两端通过密封轴承活动安装在减薄刻蚀箱两侧；瀑布流喷淋板，所述瀑布流喷淋板底部阵列式安装有若干喷淋头，本发明通过若干玻璃夹持架的夹持，能够进行直立式浸泡刻蚀和瀑布流式刻蚀法，通过在待检测玻璃两侧安装挡流板，使得待刻蚀玻璃两侧与挡流板形成的缝隙处，克服了瀑布流法无法进行双侧刻蚀的缺陷，大大提高了刻蚀的质量，提高了装置的使用范围。
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公开(公告)号：CN112551909B
公开(公告)日：2023-08-01
申请号：CN202011454116.4
申请日：2020-12-10
Applicant: 凯盛科技股份有限公司蚌埠华益分公司
Abstract: 本发明公开用于蚀刻制造超薄玻璃的方法：采用蚀刻液A和蚀刻液B分别进行蚀刻，用Ca2+、Mg2+表面修饰后，再用疏水修复液进行表面处理；所述蚀刻液A以水为溶剂，包括以下摩尔浓度组分：氢氟酸1.5～3mol/L、盐酸0.5～1.5mol/L、氟硅酸钠1.0～1.5mol/L、十二烷基硫酸钠0.1～0.2mol/L；所述蚀刻液B以水为溶剂，包括以下摩尔浓度组分：氢氟酸0.5～1.5mol/L、盐酸0.3～0.8mol/L、氟硅酸钠0.5～0.8mol/L、十二烷基硫酸钠0.1～0.2mol/L；所述疏水修复液包括以下质量份组分：水性氟碳乳液40～50份、疏水剂1～3份、硅酸钠5～7份、氟化钠2～3份、纳米氧化钛溶胶10～15份、纳米氧化硅溶胶15～20份、结构导向剂3～5份、氨基硅烷偶联剂1～2份、乳化剂0.5～2份。本发明实现对蚀刻后玻璃基板表面缺陷位置进行修补，提高结构稳定性和机械强度；又赋予玻璃柔韧性，阻止超薄玻璃碎裂。
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公开(公告)号：CN112408805A
公开(公告)日：2021-02-26
申请号：CN202011275305.5
申请日：2020-11-16
Applicant: 中建材蚌埠玻璃工业设计研究院有限公司 , 凯盛科技股份有限公司蚌埠华益分公司
IPC: C03C15/00
Abstract: 本发明提供一种极薄玻璃减薄承载装置，包括承载框、密封盖以及防倒结构，所述承载框的两端开口，且一端开口大，另一端开口小，所述承载框内安装有密封框以及护边结构，所述密封盖与开口大的端部密封安装，且在该密封盖上设有输气端口，所述防倒结构包括位于在所述承载框内的吸盘，所述吸盘安装有滑杆，该滑杆的另一端贯穿密封盖，且可与所述密封盖相对滑动。本发明，由于采用了护边结构，便于玻璃的侧边，也便于密封框与玻璃四周面相接触，另一方面是便于在上述密封过程及密封后保证密闭空间的气密性。设置了防倒结构，在玻璃加工时可以保证玻璃稳固的，同时在玻璃加工完毕后，使得玻璃便于取下。
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公开(公告)号：CN112551909A
公开(公告)日：2021-03-26
申请号：CN202011454116.4
申请日：2020-12-10
Applicant: 凯盛科技股份有限公司蚌埠华益分公司
Abstract: 本发明公开用于蚀刻制造超薄玻璃的方法：采用蚀刻液A和蚀刻液B分别进行蚀刻，用Ca2+、Mg2+表面修饰后，再用疏水修复液进行表面处理；所述蚀刻液A以水为溶剂，包括以下摩尔浓度组分：氢氟酸1.5～3mol/L、盐酸0.5～1.5mol/L、氟硅酸钠1.0～1.5mol/L、十二烷基硫酸钠0.1～0.2mol/L；所述蚀刻液B以水为溶剂，包括以下摩尔浓度组分：氢氟酸0.5～1.5mol/L、盐酸0.3～0.8mol/L、氟硅酸钠0.5～0.8mol/L、十二烷基硫酸钠0.1～0.2mol/L；所述疏水修复液包括以下质量份组分：水性氟碳乳液40～50份、疏水剂1～3份、硅酸钠5～7份、氟化钠2～3份、纳米氧化钛溶胶10～15份、纳米氧化硅溶胶15～20份、结构导向剂3～5份、氨基硅烷偶联剂1～2份、乳化剂0.5～2份。本发明实现对蚀刻后玻璃基板表面缺陷位置进行修补，提高结构稳定性和机械强度；又赋予玻璃柔韧性，阻止超薄玻璃碎裂。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN112408805B
公开(公告)日：2022-05-17
申请号：CN202011275305.5
申请日：2020-11-16
Applicant: 中建材玻璃新材料研究院集团有限公司 , 凯盛科技股份有限公司蚌埠华益分公司
IPC: C03C15/00
Abstract: 本发明提供一种极薄玻璃减薄承载装置，包括承载框、密封盖以及防倒结构，所述承载框的两端开口，且一端开口大，另一端开口小，所述承载框内安装有密封框以及护边结构，所述密封盖与开口大的端部密封安装，且在该密封盖上设有输气端口，所述防倒结构包括位于在所述承载框内的吸盘，所述吸盘安装有滑杆，该滑杆的另一端贯穿密封盖，且可与所述密封盖相对滑动。本发明，由于采用了护边结构，便于玻璃的侧边，也便于密封框与玻璃四周面相接触，另一方面是便于在上述密封过程及密封后保证密闭空间的气密性。设置了防倒结构，在玻璃加工时可以保证玻璃稳固的，同时在玻璃加工完毕后，使得玻璃便于取下。
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公开(公告)号：CN112647052B
公开(公告)日：2022-11-11
申请号：CN202011493385.1
申请日：2020-12-17
Applicant: 凯盛科技股份有限公司蚌埠华益分公司
Abstract: 本发明提供一种进口过渡真空腔体和磁控溅射镀膜生产线，包括：底座，所述底座与壳体焊接固定，所述壳体一侧开设有若干玻璃插片架通道，所述玻璃插片架通道内螺栓固定安装有玻璃插片架，所述进架通道和出架通道分别与镀膜舱和转运舱开设的相应通道相连通；转运架，所述转运架活动安装在底座上，插片机械手，所述插片机械手用于夹取玻璃并将玻璃插片架上的玻璃转运至玻璃插架上，本发明通过在过渡真空腔体内设置插片装置，使过渡真空腔体内的真空度保持与镀膜腔体相近或一致的状态，大大减少了过渡真空腔体的过渡时间，有效提高了镀膜效率，克服了人工无法在低真空度的条件下工作的障碍，减轻了人工负担。
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公开(公告)号：CN112647052A
公开(公告)日：2021-04-13
申请号：CN202011493385.1
申请日：2020-12-17
Applicant: 凯盛科技股份有限公司蚌埠华益分公司
Abstract: 本发明提供一种进口过渡真空腔体和磁控溅射镀膜生产线，包括：底座，所述底座与壳体焊接固定，所述壳体一侧开设有若干玻璃插片架通道，所述玻璃插片架通道内螺栓固定安装有玻璃插片架，所述进架通道和出架通道分别与镀膜舱和转运舱开设的相应通道相连通；转运架，所述转运架活动安装在底座上，插片机械手，所述插片机械手用于夹取玻璃并将玻璃插片架上的玻璃转运至玻璃插架上，本发明通过在过渡真空腔体内设置插片装置，使过渡真空腔体内的真空度保持与镀膜腔体相近或一致的状态，大大减少了过渡真空腔体的过渡时间，有效提高了镀膜效率，克服了人工无法在低真空度的条件下工作的障碍，减轻了人工负担。
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公开(公告)号：CN112479600A
公开(公告)日：2021-03-12
申请号：CN202011493412.5
申请日：2020-12-17
Applicant: 凯盛科技股份有限公司蚌埠华益分公司
IPC: C03C17/36
Abstract: 本发明涉及玻璃生产技术领域，具体涉及一种耐高温低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基板以及自下而上依次设置在玻璃基板表面的第一介质层、至少一个功能层、第二介质层和介质保护层，所述功能层包括自下而上依次设置的第一耐高温阻燃膜层、第一防护膜层、低辐射功能膜层、第二防护膜层、第二耐高温阻燃膜层，所述第一介质层与相邻功能层的第一耐高温阻燃膜层连接，所述第二介质层与相邻功能层的第二耐高温阻燃膜层连接，相邻的所述功能层之间通过中间介质层连接；所制备的镀膜玻璃能显著降低红外线的辐射率，增加可见光的透光性能，还提高了玻璃耐高温性能，本发明还提供其制造方法，整体制备工艺简单，有利于大批量生产及应用。
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公开(公告)号：CN213895633U
公开(公告)日：2021-08-06
申请号：CN202022968623.1
申请日：2020-12-11
Applicant: 凯盛科技股份有限公司蚌埠华益分公司
IPC: C03C17/00
Abstract: 本实用新型提供一种用于盖板玻璃减反射膜的涂覆装置，包括支架、输送辊、传送带、镀膜支架、镀膜辊、安装架、极板、喷洒管、雾化喷头、原料箱、箱盖、加压阀、静电产生器、压力表、挡板、绝缘垫、第一驱动电机和第二驱动电机，本实用新型通过改变原料箱的内部气压将镀膜液通过雾化喷头雾化喷出，并通过静电产生器让镀膜液带上电荷，并在上极板和下极板之间构建磁场，让雾化后的镀膜液定向运动，从而均匀的附着在传送带表面的盖板玻璃上，让镀膜液在盖板玻璃表面分布的更加均匀，而且通过调整原料箱内部的气压和极板之间的电场强度，能够改变单位时间内附着在盖板玻璃表面的镀膜液量，从而可以自由的调整盖板玻璃表面减反射膜的厚度。
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