公开(公告)号：CN105593165B

公开(公告)日：2019-01-04

申请号：CN201480054184.8

申请日：2014-09-26

Applicant: 关东电化工业株式会社

Inventor： 斋藤克博 ,  三田真司 ,  大矢浩三 ,  片山慎介 ,  藤原泰行 ,  森本伊知郎 ,  上原弘幸 ,  木村宣久

IPC: C01B25/10

Abstract: 本发明提供由包含HCl、HF等的气体混合物的五氟化磷(PF5)得到在半导体领域和电池领域中作为工业上有用材料的高纯度PF5的方法，具体地说，提供五氟化磷的精制方法，其包含下述工序来构成：(1)使包含混合物的五氟化磷(PF5)与比表面积为1.0m2/g以上的金属氟化物(MFn)在40～150℃下接触，将五氟化磷以六氟磷酸盐(M(PF6)n，M为n价的金属)的形式固定化的固定化工序；(2)通过将在气相部中残留的混合物向体系外排出，从而从六氟磷酸盐分离混合物的混合物分离工序；和(3)将该混合物分离后的六氟磷酸盐在150～400℃下加热、在‑0.1MPa·G以上且+0.1MPa·G以下的压力下得到五氟化磷的加热分解工序。

公开(公告)号：CN105593165A

公开(公告)日：2016-05-18

申请号：CN201480054184.8

申请日：2014-09-26

Applicant: 关东电化工业株式会社

Inventor： 斋藤克博 ,  三田真司 ,  大矢浩三 ,  片山慎介 ,  藤原泰行 ,  森本伊知郎 ,  上原弘幸 ,  木村宣久

IPC: C01B25/10

CPC classification number: C01B25/10

Abstract: 本发明提供由包含HCl、HF等的气体混合物的五氟化磷(PF5)得到在半导体领域和电池领域中作为工业上有用材料的高纯度PF5的方法，具体地说，提供五氟化磷的精制方法，其包含下述工序来构成：(1)使包含混合物的五氟化磷(PF5)与比表面积为1.0m2/g以上的金属氟化物(MFn)在40～150℃下接触，将五氟化磷以六氟磷酸盐(M(PF6)n，M为n价的金属)的形式固定化的固定化工序；(2)通过将在气相部中残留的混合物向体系外排出，从而从六氟磷酸盐分离混合物的混合物分离工序；和(3)将该混合物分离后的六氟磷酸盐在150～400℃下加热、在-0.1MPa·G以上且+0.1MPa·G以下的压力下得到五氟化磷的加热分解工序。