公开(公告)号：CN111902565A

公开(公告)日：2020-11-06

申请号：CN201880091619.4

申请日：2018-05-08

Applicant: 全南大学校产学协力团

Inventor： 金度亨

IPC: C23C16/44 ,  C23C16/455 ,  C23C16/52

Abstract: 本发明提供新概念的微粒用ALD或者数字CVD装置以及方法，在没有额外的反应器本身的振动或旋转的情况下，使用导入反应器的前驱体或者净化气体的脉冲导入带来的冲击，抑制表面涂覆对象、即颗粒的凝聚(agglomeration)，实现分散的最大化，并且对于各颗粒能够实现均匀的颗粒涂覆，并且在没有额外的过滤器或填料的情况下能够防止待涂覆的粉体在工序中从反应器流失。根据本发明的沉积反应器构成为重叠配置了至少两个以上的反应器的结构，反应物的引入或者净化气体的引入直接引入发生化学反应的内部反应器，但是净化步骤可以在内部反应器和外部反应器中同时实现。

公开(公告)号：CN111902565B

公开(公告)日：2022-06-24

申请号：CN201880091619.4

申请日：2018-05-08

Applicant: 全南大学校产学协力团

Inventor： 金度亨

IPC: C23C16/44 ,  C23C16/455 ,  C23C16/52

Abstract: 本发明提供新概念的微粒用ALD或者数字CVD装置以及方法，在没有额外的反应器本身的振动或旋转的情况下，使用导入反应器的前驱体或者净化气体的脉冲导入带来的冲击，抑制表面涂覆对象、即颗粒的凝聚(agglomeration)，实现分散的最大化，并且对于各颗粒能够实现均匀的颗粒涂覆，并且在没有额外的过滤器或填料的情况下能够防止待涂覆的粉体在工序中从反应器流失。根据本发明的沉积反应器构成为重叠配置了至少两个以上的反应器的结构，反应物的引入或者净化气体的引入直接引入发生化学反应的内部反应器，但是净化步骤可以在内部反应器和外部反应器中同时实现。