公开(公告)号：CN119487445A

公开(公告)日：2025-02-18

申请号：CN202380051912.9

申请日：2023-07-04

Applicant: 信越化学工业株式会社 ,  日本轻金属株式会社

Inventor： 筑濑优 ,  大岛毅士 ,  中野耕一

IPC: G03F1/64

Abstract: 本发明为一种防护膜框架，构成光刻用的防护膜，所述防护膜框架为纯钛或钛合金制，且对表面实施了机械性研磨处理、电解脱脂处理以及化学性研磨处理。由此，提供一种减少了残存于表面的粉尘粒子的防护膜框架及防护膜框架的制造方法。

公开(公告)号：CN118786253A

公开(公告)日：2024-10-15

申请号：CN202280090403.2

申请日：2022-11-22

Applicant: 日本轻金属株式会社

Inventor： 新山步 ,  清水裕太 ,  中野耕一 ,  大岛毅士

IPC: C25D11/26

Abstract: 本发明提供如下的表面平滑化金属构件及其简便且有效率的制造方法：在钛或钛合金制的大型的金属构件的表面中平滑化至平坦部的最大高度粗糙度(Rz)为1.1μm以下、且曲率半径为0.05mm～2.5mm的部分的最大高度粗糙度(Rz)未满2μm的程度。本发明的表面平滑化金属构件的制造方法的特征在于，对包含钛或钛合金的基材实施阳极氧化处理，在所述基材的表面形成阳极氧化皮膜，使所述阳极氧化皮膜脱离，由此使基材的表面平滑化。