公开(公告)号：CN101052917A

公开(公告)日：2007-10-10

申请号：CN200580036565.4

申请日：2005-09-08

Applicant: 信越化学工业株式会社 ,  凸版印刷株式会社

Inventor： 吉川博树 ,  稻月判臣 ,  冈崎智 ,  原口崇 ,  岩片政秀 ,  高木干夫 ,  福岛祐一 ,  佐贺匡

IPC: G03F1/08

CPC classification number: G03F1/46 ,  G03F1/58 ,  G03F1/68

Abstract: 本发明涉及一种光掩模坯料及光掩模，其是形成在透明基板上设置了具有对曝光光透明的区域和实效上不透明的区域的掩模图案的光掩模的原材料，是在透明基板上，经过或不经过其它的膜(A)形成1层或2层以上的遮光膜，构成上述遮光膜的层的至少1层(B)作为主要成分含有硅和过渡金属，而且硅和过渡金属的摩尔比是硅∶金属＝4～15∶1(原子比)的光掩模坯料及使用该光掩模坯料在透明基板上形成具有对曝光光透明的区域和实效上不透明的区域的掩模图案的光掩模。

公开(公告)号：CN101010631A

公开(公告)日：2007-08-01

申请号：CN200580029571.7

申请日：2005-08-10

Applicant: 信越化学工业株式会社 ,  凸版印刷株式会社

Inventor： 吉川博树 ,  稻月判臣 ,  木名濑良纪 ,  冈崎智 ,  原口崇 ,  岩片政秀 ,  高木干夫 ,  福岛祐一 ,  佐贺匡

IPC: G03F1/08 ,  G03F1/14 ,  C23F4/00 ,  H01L21/027

CPC classification number: C23F4/00 ,  G03F1/32 ,  G03F1/54 ,  G03F1/80

Abstract: 在光掩模基板11的一个主面上具备金属膜作为遮光层12，所述金属膜不被含氧的氯类干蚀刻((Cl+O)类干蚀刻)实质性地蚀刻、而且可以被不含氧的氯类干蚀刻(Cl类干蚀刻)及氟类干蚀刻(F类干蚀刻)蚀刻。然后在该遮光层12上具有金属化合物膜作为防反射层13，所述金属化合物膜不会被不含氧的氯类干蚀刻(Cl类)实质性地蚀刻、而且可以被含氧的氯类干蚀刻((Cl+O)类)或氟类干蚀刻(F类)中的至少一种蚀刻。

公开(公告)号：CN101052917B

公开(公告)日：2010-11-03

申请号：CN200580036565.4

申请日：2005-09-08

Applicant: 信越化学工业株式会社 ,  凸版印刷株式会社

Inventor： 吉川博树 ,  稻月判臣 ,  冈崎智 ,  原口崇 ,  岩片政秀 ,  高木干夫 ,  福岛祐一 ,  佐贺匡

IPC: G03F1/08

CPC classification number: G03F1/46 ,  G03F1/58 ,  G03F1/68

Abstract: 本发明涉及一种光掩模坯料及光掩模，其是形成在透明基板上设置了具有对曝光光透明的区域和实效上不透明的区域的掩模图案的光掩模的原材料，是在透明基板上，经过或不经过其它的膜(A)形成1层或2层以上的遮光膜，构成上述遮光膜的层的至少1层(B)作为主要成分含有硅和过渡金属，而且硅和过渡金属的摩尔比是硅∶金属＝4～15∶1(原子比)的光掩模坯料及使用该光掩模坯料在透明基板上形成具有对曝光光透明的区域和实效上不透明的区域的掩模图案的光掩模。