公开(公告)号：CN115685667A

公开(公告)日：2023-02-03

申请号：CN202210856517.5

申请日：2022-07-20

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 杉山朋阳 ,  原田大实 ,  松井晴信 ,  枪田直树 ,  竹内正树

IPC: G03F1/68 ,  G03F1/70 ,  G03F7/20

Abstract: 本发明涉及掩模坯料基板及其制造方法。掩模坯料基板，当在以下情况下时，具有100nm或更小的计算表面的平坦度：设置穿过第一和第二主表面的中心部分并在水平方向上延伸的计算区域，切割出第一区域表面，通过设置基准平面和旋转轴并将基板旋转180°切割出第二区域表面，计算最小二乘平面，将第一和第二区域表面转化成最小二乘平面上位置的高度图，通过对称地移动所述高度图将第二区域表面的高度图设置为倒置高度图，和将通过第一区域表面的高度图的高度和第二区域表面的倒置高度图相加而获得的计算高度图设置为所述计算表面。

公开(公告)号：CN119024637A

公开(公告)日：2024-11-26

申请号：CN202410653073.4

申请日：2024-05-24

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 杉山朋阳 ,  原田大实 ,  松井晴信 ,  竹内正树

IPC: G03F1/60 ,  G03F1/68 ,  G03F7/00

Abstract: 掩模坯基板具有152mm×152mm方形的第一和第二主表面与6.35mm的厚度，其中在通过将第一、第二主表面的图相加而获得的拟TTV图中，在第一矩形区域与第二矩形区域重合的情况下形成的十字形区域内，在拟TTV图的拟合中，当导出平面函数时情况下，排除一次成分的TTV1图的最高、最低高度之差为≤35nm，并且，当导出曲面函数时情况下，排除一次、二次成分的TTV2图的最高、最低高度之差为≤25nm，132mm×104mm的第一、第二矩形区域彼此正交，并且平行于主表面的四条边、以主表面的对角线的交点为中心。

公开(公告)号：CN117289541A

公开(公告)日：2023-12-26

申请号：CN202310736900.1

申请日：2023-06-21

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 杉山朋阳 ,  原田大实 ,  松井晴信 ,  枪田直树 ,  竹内正树

IPC: G03F1/66 ,  G03F1/68 ,  G03F1/82

Abstract: 本发明涉及一种用于掩模坯料的衬底及其制造方法。具有152mm×152mm见方的第一和第二主表面以及6.35mm的厚度的用于掩模坯料的衬底，其中：当中心在对角线交点上的132mm×132mm正方形的范围定义为在第一主表面与第二主表面每者中的计算区域时，在第一主表面和第二主表面的至少一者的计算区域的衬底表面上，基于最小二乘平面的计算区域的衬底表面的平坦度为100nm以下，并且计算表面高度的最高值与最低值之间的差值(PV)为20nm以下，所述差值(PV)由基于最小二乘平面的使用高斯滤波器(10mm×10mm)的平滑处理之前该衬底表面的形状与平滑处理之后的形状之间的差异所表示。