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公开(公告)号：CN118567200A
公开(公告)日：2024-08-30
申请号：CN202410793798.3
申请日：2019-05-31
Applicant: 佳能株式会社
IPC: G03G5/147
Abstract: 本发明涉及电子照相感光构件、处理盒和电子照相设备。电子照相感光构件包括支承体和表面层，其中表面层包含组合物的共聚物，该组合物至少含有由以下通式(1)表示的化合物和由以下通式(2)表示的化合物，在组合物中由通式(1)表示的化合物的含量相对于由通式(1)表示的化合物和由通式(2)表示的化合物的总含量为25质量％以上且70质量％以下，并且由通式(1)表示的化合物和由通式(2)表示的化合物的总含量相对于组合物的总质量为55质量％以上。
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公开(公告)号：CN111474834B
公开(公告)日：2024-12-27
申请号：CN202010075229.7
申请日：2020-01-22
Applicant: 佳能株式会社
IPC: G03G5/147
Abstract: 本发明涉及电子照相感光构件、处理盒和电子照相设备。该电子照相感光构件包括：支承体；电荷产生层；和电荷输送层，该电荷产生层和电荷输送层配置在支承体上，其中电子照相感光构件的表面层包含：具有5nm以上且50nm以下的一次颗粒的平均粒径(Lα)的无机颗粒；和具有0.1μm以上且5.0μm以下的一次颗粒的平均粒径(Lβ)的树脂颗粒，和其中在表面层的任意截面中，满足"(Smα)/(Sα)≥0.3"，其中在与树脂颗粒各自的表面相距(Lβ/2)以内的区域定义为区域(M)，任意截面中的无机颗粒的截面积之和由(Sα)表示，和区域(M)中所包含的无机颗粒的截面积之和由(Smα)表示。
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公开(公告)号：CN103562798B
公开(公告)日：2016-10-12
申请号：CN201280026647.0
申请日：2012-05-28
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: G03G15/75 , G03G5/0592 , G03G5/0596 , G03G5/147 , G03G5/14795
Abstract: 提供一种难以产生图像缺失的电子照相感光构件，以及具有该电子照相感光构件的处理盒和电子照相设备。为此，电子照相感光构件的表面包括多个凹部和除凹部以外的部分，各凹部具有深度为0.5至5μm和开口部最长径为20至80μm；当在电子照相感光构件的表面的任意位置中配置500μm×500μm正方形区域时，500μm×500μm正方形区域中凹部的面积为10000至90000μm2，除凹部以外的部分中包含的平坦部的面积为80000至240000μm2。
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公开(公告)号：CN105589307A
公开(公告)日：2016-05-18
申请号：CN201510757376.1
申请日：2015-11-09
Applicant: 佳能株式会社
Abstract: 本发明涉及电子照相感光构件、处理盒和电子照相设备。电子照相感光构件包括电荷输送层，所述电荷输送层含有(α)电荷输送化合物，(β)相对于所述电荷输送化合物的质量，比例在50质量％至200质量％的范围内的粘结树脂，(γ)相对于所述电荷输送层的总质量，含量在0.01质量％至2.00质量％的范围内的为二甲苯和甲苯中至少之一的化合物，和(δ)相对于所述电荷输送层的总质量，含量在0.01质量％至1.20质量％的范围内的环烷酮。
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公开(公告)号：CN103376676B
公开(公告)日：2015-09-09
申请号：CN201310133333.7
申请日：2013-04-17
Applicant: 佳能株式会社
IPC: G03G5/147
CPC classification number: G03G5/00 , B29C59/005 , B29C59/02 , G03G5/04 , G03G5/0525 , G03G5/147
Abstract: 本发明涉及电子照相感光构件的表面加工方法和电子照相感光构件的生产方法。在垂直于电子照相感光构件旋转轴的截面中，当作为截面与接触面(电子照相感光构件和成型构件接触的面)的交线的弧由弧AB表示，电子照相感光构件的截面的圆的中心由中心O表示以及在成型构件加压接触方向的直线中通过中心O的直线与弧AB的交点由交点C表示时，以使∠AOC和∠BOC分别满足下式(1)和(2)的方式将成型构件表面上的凹凸结构转印到电子照相感光构件的表面：0.5°≤∠AOC≤45°(1)，和0.5°≤∠BOC≤45°(2)。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103229107A
公开(公告)日：2013-07-31
申请号：CN201180057032.X
申请日：2011-11-18
Applicant: 佳能株式会社
IPC: G03G5/00
CPC classification number: B29C59/021 , G03G5/147 , G03G5/14704 , G03G5/14708 , G03G5/14713 , G03G5/14726 , G03G5/14756 , G03G5/14795
Abstract: 在凹凸结构形成于筒状电子照相感光构件的表面的情况下，为了即使在连续加工大量的筒状电子照相感光构件时也能够减小各个筒状电子照相感光构件之间的凹凸结构的变化，插入件被插入到包括筒状基体和表面层的筒状电子照相感光构件的内部，成型构件的表面凹凸结构被转印并形成于感光构件的表面层的表面。插入件包括具有能够抵接于基体的内周面的外周面的抵接部、位于抵接部的径向内侧的连接部和位于连接部的径向内侧的轴部。
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公开(公告)号：CN119882375A
公开(公告)日：2025-04-25
申请号：CN202411501414.2
申请日：2024-10-25
Applicant: 佳能株式会社
Abstract: 本发明涉及电子照相感光构件、处理盒和电子照相设备。电子照相感光构件包括支承体、直接形成在支承体上的底涂层和形成在底涂层上的感光层，其中当底涂层的电离电位由IPu表示时，IPu为6.0eV以上，当支承体的电离电位由IPs表示时，IPs低于IPu，底涂层包含化合物(α)，当化合物(α)的电离电位由IPα表示时，IPα为5.0eV以上且5.4eV以下，并且IPs和IPα满足以下关系表达式(1)：IPs≥IPα‑1.0(1)。
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公开(公告)号：CN111474834A
公开(公告)日：2020-07-31
申请号：CN202010075229.7
申请日：2020-01-22
Applicant: 佳能株式会社
IPC: G03G5/147
Abstract: 本发明涉及电子照相感光构件、处理盒和电子照相设备。该电子照相感光构件包括：支承体；电荷产生层；和电荷输送层，该电荷产生层和电荷输送层配置在支承体上，其中电子照相感光构件的表面层包含：具有5nm以上且50nm以下的一次颗粒的平均粒径(Lα)的无机颗粒；和具有0.1μm以上且5.0μm以下的一次颗粒的平均粒径(Lβ)的树脂颗粒，和其中在表面层的任意截面中，满足"(Smα)/(Sα)≥0.3"，其中在与树脂颗粒各自的表面相距(Lβ/2)以内的区域定义为区域(M)，任意截面中的无机颗粒的截面积之和由(Sα)表示，和区域(M)中所包含的无机颗粒的截面积之和由(Smα)表示。
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公开(公告)号：CN110554585A
公开(公告)日：2019-12-10
申请号：CN201910467065.X
申请日：2019-05-31
Applicant: 佳能株式会社
IPC: G03G5/147
Abstract: 本发明涉及电子照相感光构件、处理盒和电子照相设备。电子照相感光构件包括支承体和表面层，其中表面层包含组合物的共聚物，该组合物至少含有由以下通式(1)表示的化合物和由以下通式(2)表示的化合物，在组合物中由通式(1)表示的化合物的含量相对于由通式(1)表示的化合物和由通式(2)表示的化合物的总含量为25质量％以上且70质量％以下，并且由通式(1)表示的化合物和由通式(2)表示的化合物的总含量相对于组合物的总质量为55质量％以上。
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公开(公告)号：CN103376676A
公开(公告)日：2013-10-30
申请号：CN201310133333.7
申请日：2013-04-17
Applicant: 佳能株式会社
IPC: G03G5/147
CPC classification number: G03G5/00 , B29C59/005 , B29C59/02 , G03G5/04 , G03G5/0525 , G03G5/147
Abstract: 本发明涉及电子照相感光构件的表面加工方法和电子照相感光构件的生产方法。在垂直于电子照相感光构件旋转轴的截面中，当作为截面与接触面(电子照相感光构件和成型构件接触的面)的交线的弧由弧AB表示，电子照相感光构件的截面的圆的中心由中心O表示以及在成型构件加压接触方向的直线中通过中心O的直线与弧AB的交点由交点C表示时，以使∠AOC和∠BOC分别满足下式(1)和(2)的方式将成型构件表面上的凹凸结构转印到电子照相感光构件的表面：0.5°≤∠AOC≤45°(1)，和0.5°≤∠BOC≤45°(2)。
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