-
公开(公告)号：CN117950275A
公开(公告)日：2024-04-30
申请号：CN202311433812.0
申请日：2023-10-31
Applicant: 佳能株式会社
Inventor： 茂泉纯
IPC: G03F7/20
Abstract: 本公开涉及曝光方法、曝光装置以及用于制造物品的方法。曝光方法包括：作为曝光经由投影光学系统对批次中包括的多个基板在曝光处理的开始和结束之间执行曝光处理，基于曝光的曝光处理条件预测在曝光期间投影光学系统的光学特性的改变，基于预测的结果确定在曝光期间光学特性是否超过预定范围，以及在确定在曝光期间光学特性超过所述预定范围的情况下，在光学特性超过所述预定范围之前调整光学特性，其中在所述调整之后对所述多个基板中的至少一个或多个基板进行曝光。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN117891137A
公开(公告)日：2024-04-16
申请号：CN202311332998.0
申请日：2023-10-13
Applicant: 佳能株式会社
Inventor： 茂泉纯
Abstract: 本公开涉及装置、装置的控制方法、信息处理装置、信息处理方法、以及物品制造方法。一种装置包括控制单元，该控制单元被配置为控制用于调整光学系统的成像特性的调整单元。在跨越多个批次的时段中，控制单元测量光学系统的成像特性，并且决定预测公式中的预测系数以将预测公式拟合到在跨越多个批次的时段中通过测量获得的测量数据。预测公式是多项式函数，该多项式函数包括表示成像特性的测量值的改变的项，该成像特性的测量值的改变是由在批次之间改变照明模式和原版中的至少一个引起的。控制单元决定多项式函数的项，使得拟合残差落入允许的范围内。
-
公开(公告)号：CN115437223A
公开(公告)日：2022-12-06
申请号：CN202210595578.0
申请日：2022-05-30
Applicant: 佳能株式会社
Inventor： 茂泉纯
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明涉及校正方法以及物品制造方法。提供校正利用照明光学系统对掩模进行照明并利用投影光学系统将掩模的图案投影到基板的曝光装置中的投影光学系统的光学特性的校正方法。校正方法具有：测量工序，通过在照明光学系统的瞳面上形成光强度分布A，测量投影光学系统的光学特性；以及校正工序，通过在照明光学系统的瞳面上形成与光强度分布A不同的光强度分布B，对投影光学系统进行加热，校正投影光学系统的光学特性，在校正工序中，根据测量工序中的测量结果来决定利用光强度分布B对投影光学系统进行加热时的光强度分布B的照射条件，在光强度分布B的所决定的照射条件下对投影光学系统进行加热，校正投影光学系统的光学特性。
-
-
公开(公告)号：CN112130421B
公开(公告)日：2023-11-14
申请号：CN202010590397.X
申请日：2020-06-24
Applicant: 佳能株式会社
IPC: G03F7/20
Abstract: 公开了曝光装置、曝光方法和制造物品的方法。曝光装置包括：第一温度控制器，用于控制投影光学系统的光学元件上的温度分布；第二温度控制器，用于控制投影光学系统的光学元件上的温度分布，其中，在执行曝光操作的第一时段中，第一温度控制器和第二温度控制器中的至少一个操作以减小由于执行曝光操作而引起的投影光学系统的像差的变化，并且在第一时段之后并且不执行曝光操作的第二时段中，第一温度控制器和第二温度控制器中的至少一个操作以减小由于不执行曝光操作而引起的像差的变化。
-
公开(公告)号：CN112130421A
公开(公告)日：2020-12-25
申请号：CN202010590397.X
申请日：2020-06-24
Applicant: 佳能株式会社
IPC: G03F7/20
Abstract: 公开了曝光装置、曝光方法和制造物品的方法。曝光装置包括：第一温度控制器，用于控制投影光学系统的光学元件上的温度分布；第二温度控制器，用于控制投影光学系统的光学元件上的温度分布，其中，在执行曝光操作的第一时段中，第一温度控制器和第二温度控制器中的至少一个操作以减小由于执行曝光操作而引起的投影光学系统的像差的变化，并且在第一时段之后并且不执行曝光操作的第二时段中，第一温度控制器和第二温度控制器中的至少一个操作以减小由于不执行曝光操作而引起的像差的变化。
-
-
-
-
-
Search Results
6
records
(took 0.02 seconds)
