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公开(公告)号:CN1029163C
公开(公告)日:1995-06-28
申请号:CN92101430.9
申请日:1992-01-31
Applicant: 佳能株式会社
IPC: G03G15/09
CPC classification number: G03G15/0928
Abstract: 一种显现静电潜像用的显影装置包括一个用于把一种成分的显影剂携带到显影区的显影剂载带部件,在该显影区显影剂被加到静电潜像成像部件上;一个用于调节显影剂载带部件上显影区的显影剂厚度的调节部件;其特征是显影剂载带部件包括一层内含树脂材料的涂层,在树脂材料中分散有细的石墨粒子,以及涂层的表面功函数曲线的斜率不小于10(cps/ev)。
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公开(公告)号:CN1148192A
公开(公告)日:1997-04-23
申请号:CN95118121.1
申请日:1995-10-31
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: G03G15/751 , B23P11/025 , B24C1/04 , B25J17/0208 , G03G15/0928 , Y10T29/49556
Abstract: 本发明的目的在于提供一种能在一圆柱件与一凸缘件之间确定出高的共轴性与高的径向波动接度的圆柱体制造方法。为实现此目的,在本发明的圆柱体制造方法中,通过加热一筒件的端部来增大此端部的内径。将一支承在机械手端部的凸缘件在此凸缘件的中央轴线与上述筒件的中央轴线准直时,对此筒件的端部的内径经处理过的孔作间隙配合。然后推压此凸缘件使其外周边贴靠位上述筒件的端面。
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公开(公告)号:CN1065144A
公开(公告)日:1992-10-07
申请号:CN92101430.9
申请日:1992-01-31
Applicant: 佳能株式会社
IPC: G03G15/09
CPC classification number: G03G15/0928
Abstract: 一种显现静电潜像用的显影装置包括一个用于把一种成分的显影剂携带到显影区的显影剂载带部件,在该显影区显影剂被加到静电潜像成像部件上;一个用于调节显影剂载带部件上显影区的显影剂厚度的调节部件;其特征是显影剂载带部件包括一层内含树脂材料的涂层,在树脂材料中分散有细的石墨粒子,以及涂层的表面功函数曲线的斜率不小于10(cps/ev)。
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公开(公告)号:CN1258023A
公开(公告)日:2000-06-28
申请号:CN99127720.1
申请日:1999-11-26
Applicant: 佳能株式会社
IPC: G03G5/10
CPC classification number: G03G5/102
Abstract: 一种电摄影光敏元件的生产方法,包括下列步骤a)和b)中至少一步和下列步骤c)和d);a)用酸和碱中的至少一种蚀刻铝基片;b)用含有5%体积或更多的球形磨料的磨料分散体磨蚀铝基片,以累计百分率计,50%的球形磨料直径是5μm至60μm;c)对已经步骤a)和b)中至少一步处理过的铝基片,用含钛盐或锆盐的酸性水溶液进行化学转化;和d)在已经化学转化的铝基片上形成光敏层。
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公开(公告)号:CN1248060C
公开(公告)日:2006-03-29
申请号:CN99127720.1
申请日:1999-11-26
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: G03G5/102
Abstract: 一种电摄影光敏元件的生产方法,包括下列步骤a)和b)中至少一步和下列步骤c)和d):a)用酸和碱中的至少一种蚀刻铝基片;b)用含有5%体积或更多的球形磨料的磨料分散体磨蚀铝基片,以累计百分率计,50%的球形磨料直径是5μm至60μm;c)对已经步骤a)和b)中至少一步处理过的铝基片,用含钛盐或锆盐的酸性水溶液进行化学转化;和d)在已经化学转化的铝基片上形成光敏层。
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公开(公告)号:CN1089908C
公开(公告)日:2002-08-28
申请号:CN95118121.1
申请日:1995-10-31
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: G03G15/751 , B23P11/025 , B24C1/04 , B25J17/0208 , G03G15/0928 , Y10T29/49556
Abstract: 本发明的目的在于提供一种能在一圆柱件与一凸缘件之间确定出高的共轴性与高的径向波动接度的圆柱体制造方法。为实现此目的,在本发明的圆柱体制造方法中,通过加热一筒件的端部来增大此端部的内径。将一支承在机械手端部的凸缘件在此凸缘件的中央轴线与上述筒件的中央轴线准直时,对此筒件的端部的内径经处理过的孔作间隙配合。然后推压此凸缘件使其外周边贴靠位上述筒件的端面。
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