公开(公告)号：CN117706884A

公开(公告)日：2024-03-15

申请号：CN202311159843.1

申请日：2023-09-08

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 根谷尚稔 ,  土井贤 ,  栢森翔太

IPC: G03F9/00

Abstract: 本发明涉及光刻装置、光刻装置的控制方法、物品制造方法以及存储介质。提供有利于提高最佳聚焦位置推定精度的技术。光刻装置具有观察光学系统，经由投影光学系统检测包含原版侧标记和基板侧标记的图像；获取部件，获取基于在多个散焦位置分别由观察光学系统检测出的图像的评价值集合；决定部件，基于评价值集合，求出表示散焦位置与评价值的关系的近似函数作为对比度曲线，获取部件包括第1部件，从图像得到分别包含原版侧标记或基板侧标记的多个部分图像；第2部件，对多个部分图像分别进行直方图扩展；第3部件，求出进行了直方图扩展的多个部分图像各自的评价值即部分评价值；第4部件，使用多个部分图像各自的部分评价值，求出图像的评价值。

公开(公告)号：CN119225122A

公开(公告)日：2024-12-31

申请号：CN202410591699.7

申请日：2024-05-14

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 朝日亮吏 ,  栢森翔太

IPC: G03F7/20 ,  G03F9/00

Abstract: 本发明涉及信息处理装置、信息处理方法、存储介质、曝光方法、基板处理装置以及物品的制造方法。具有处理部，该处理部使用基于在第1基板上的多个拍摄区域分别设置的标记的位置的测量结果的第1值来生成回归模型，根据基于在第2基板上的多个拍摄区域中的样本拍摄区域设置的标记的位置的测量结果的第2值和所述回归模型，求出用于所述第2基板上的多个拍摄区域中的与所述样本拍摄区域不同的多个非样本拍摄区域的对位的对位量，进行所述标记的位置的测量的所述第1基板上的多个拍摄区域的数量比所述样本拍摄区域的数量多，所述回归模型包括与所述多个非样本拍摄区域分别对应的回归模型。