公开(公告)号：CN107450279B

公开(公告)日：2020-06-19

申请号：CN201710405957.8

申请日：2017-06-01

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 平井真一郎 ,  本岛顺一 ,  大川直人

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明提供一种曝光装置、曝光方法以及物品制造方法。本发明提供一种曝光装置，该曝光装置对基板的曝光区域进行曝光，该基板具有半导体芯片和配置在该半导体芯片的周围的模制材料。该曝光装置具有：载置台，保持所述基板地移动；测量部，在被所述载置台保持的所述基板的所述曝光区域的多个测量点处测量该基板的高度；以及控制部。所述控制部根据与所述基板中的所述半导体芯片的配置有关的设计数据，对所述多个测量点处的各个测量结果进行加权，根据该加权后的测量结果，控制所述载置台的高度以及倾斜度中的至少某一个。

公开(公告)号：CN107450279A

公开(公告)日：2017-12-08

申请号：CN201710405957.8

申请日：2017-06-01

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 平井真一郎 ,  本岛顺一 ,  大川直人

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明提供一种曝光装置、曝光方法以及物品制造方法。本发明提供一种曝光装置，该曝光装置对基板的曝光区域进行曝光，该基板具有半导体芯片和配置在该半导体芯片的周围的模制材料。该曝光装置具有：载置台，保持所述基板地移动；测量部，在被所述载置台保持的所述基板的所述曝光区域的多个测量点处测量该基板的高度；以及控制部。所述控制部根据与所述基板中的所述半导体芯片的配置有关的设计数据，对所述多个测量点处的各个测量结果进行加权，根据该加权后的测量结果，控制所述载置台的高度以及倾斜度中的至少某一个。

公开(公告)号：CN110209016B

公开(公告)日：2021-09-28

申请号：CN201910132118.2

申请日：2019-02-22

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 西村光英 ,  远藤正俊 ,  本岛顺一

IPC: G03F7/20 ,  G03F9/00

Abstract: 公开了曝光装置、曝光方法和制造物品的方法。提供了曝光基板的曝光装置。曝光装置包括：台，被配置成保持并且移动基板；和控制器，被配置成基于为了针对基板上的投射区域的台的聚焦驱动而取得的测量值和校正值来控制台的聚焦驱动。控制器被配置成根据曝光时的视角来确定校正值。

公开(公告)号：CN110209016A

公开(公告)日：2019-09-06

申请号：CN201910132118.2

申请日：2019-02-22

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 西村光英 ,  远藤正俊 ,  本岛顺一

IPC: G03F7/20 ,  G03F9/00

Abstract: 公开了曝光装置、曝光方法和制造物品的方法。提供了曝光基板的曝光装置。曝光装置包括：台，被配置成保持并且移动基板；和控制器，被配置成基于为了针对基板上的投射区域的台的聚焦驱动而取得的测量值和校正值来控制台的聚焦驱动。控制器被配置成根据曝光时的视角来确定校正值。

公开(公告)号：CN115708017A

公开(公告)日：2023-02-21

申请号：CN202210954985.6

申请日：2022-08-10

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 西村光英 ,  本岛顺一 ,  寺尾勉

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明提供控制装置、光刻装置和物品制造方法。提供了一种用于对移动体进行位置控制的控制装置。该装置包括前馈控制器，其被构造为通过将前馈操纵变量提供给移动体来进行前馈控制。在前馈控制的持续时间超过预定时间的情况下，前馈控制器使用基于在包括预定时间结束的预定区间中使用的前馈操纵变量而获得的前馈操纵变量来继续前馈控制。

公开(公告)号：CN112526828A

公开(公告)日：2021-03-19

申请号：CN202010984147.4

申请日：2020-09-18

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 西村光英 ,  本岛顺一

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明提供控制设备和方法、光刻装置、制造物品的方法和存储介质。控制设备用于通过向控制对象赋予前馈操作量来进行对控制对象的位置控制，从而即使在通过赋予前馈操作量来进行位置控制的情况下继续控制的目标时间超过上限，也能够抑制控制偏差，控制设备包括：被构造为用作确定单元和校正单元的至少一个处理器或电路，确定单元被构造为，确定用于继续使用前馈操作量的控制的目标时间是否超过预定时间，并且校正单元被构造为，在确定单元确定目标时间超过了预定时间的情况下，将前馈操作量校正为向目标时间的末端衰减。

公开(公告)号：CN110426919B

公开(公告)日：2022-12-13

申请号：CN201910349381.7

申请日：2019-04-28

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 吉田宏二 ,  本岛顺一 ,  西村光英 ,  大豆生田吉广

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明提供控制设备、光刻装置和物品的制造方法。该控制设备通过向控制对象提供前馈操纵值来进行控制对象的位置控制，其中，所述设备针对控制对象将被布置的多个位置中的各位置，获得当向控制对象提供第一操纵值时获得的控制对象的第一输出响应的测量结果，基于在所述多个位置处分别获得的测量结果确定第一输出响应的基准值，通过基于第一操纵值与基准值之间的关系按时间序列排列多个第一操纵值来确定第二操纵值，并基于第二操纵值设置前馈操纵值。

公开(公告)号：CN114253094A

公开(公告)日：2022-03-29

申请号：CN202111089784.6

申请日：2021-09-17

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 辻川卓朗 ,  本岛顺一

IPC: G03F9/00 ,  G01B11/00

Abstract: 本发明涉及光刻装置的控制方法、光刻装置以及物品制造方法。提供有利于提高基板的位置测量的精度的技术。光刻装置的控制方法具有：取得工序，由摄像部对基板的测量区域进行摄像而得到图像；计算工序，计算与得到的所述图像的熵有关的评价值；以及登记工序，在计算出的所述评价值满足预定的基准的情况下，将所述图像的信息登记为用于基板的位置测量的信息。

公开(公告)号：CN110426919A

公开(公告)日：2019-11-08

申请号：CN201910349381.7

申请日：2019-04-28

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 吉田宏二 ,  本岛顺一 ,  西村光英 ,  大豆生田吉广

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明提供控制设备、光刻装置和物品的制造方法。该控制设备通过向控制对象提供前馈操纵值来进行控制对象的位置控制，其中，所述设备针对控制对象将被布置的多个位置中的各位置，获得当向控制对象提供第一操纵值时获得的控制对象的第一输出响应的测量结果，基于在所述多个位置处分别获得的测量结果确定第一输出响应的基准值，通过基于第一操纵值与基准值之间的关系按时间序列排列多个第一操纵值来确定第二操纵值，并基于第二操纵值设置前馈操纵值。

公开(公告)号：CN108073048A

公开(公告)日：2018-05-25

申请号：CN201711141060.5

申请日：2017-11-17

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 平井真一郎 ,  本岛顺一 ,  大川直人

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明涉及曝光装置、曝光方法和物品的制造方法。本发明提供曝光基板的曝光装置，所述曝光装置包括：被配置为在多个测量点中的每一个处测量基板的高度的测量单元；和被配置为基于通过测量单元获得的测量结果控制基板的高度并且控制将基板的被照区域布置在第一位置中并且曝光被照区域的操作的控制单元，其中，被照区域包含多个部分区域，以及，通过将被照区域布置在与第一位置不同的第二位置中使得布置于多个部分区域中的测量点的数量大于但将被照区域布置在第一位置中时的数量，控制单元使测量单元测量基板的高度。