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公开(公告)号：CN119451522A
公开(公告)日：2025-02-14
申请号：CN202410990376.5
申请日：2024-07-23
Applicant: 佳能株式会社
Abstract: 本发明提供一种有利于使膜厚分布均匀的有机EL器件的制造方法及涂敷装置。有机EL器件的制造方法包括：准备基板的工序，该基板具有包含呈矩阵状排列的多个第1点区域和呈矩阵状排列的多个第2点区域的主面，所述多个第2点区域中的各第2点区域比所述多个第1点区域中的各第1点区域小；以及涂敷工序，在所述多个第1点区域分别涂敷第1液体，在所述多个第2点区域分别涂敷第2液体，且在所述多个第2点区域之间涂敷第3液体。
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公开(公告)号：CN116313893A
公开(公告)日：2023-06-23
申请号：CN202211636641.7
申请日：2022-12-20
Applicant: 佳能株式会社
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明提供基板处理装置以及基板处理方法。基板处理装置具备：腔室；减压机构，该减压机构对上述腔室的内部空间进行减压；基板保持部，该基板保持部在上述内部空间中保持具有膜的基板；盖，该盖设有多个开口，覆盖在上述内部空间中由上述基板保持部保持的上述基板；气体分析计，该气体分析计检测由上述基板保持部以及上述盖包围的基板收容空间的特定气体；以及控制器，该控制器基于上述气体分析计的输出来判定上述膜的干燥的结束。
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公开(公告)号：CN118237242A
公开(公告)日：2024-06-25
申请号：CN202311748470.1
申请日：2023-12-19
Applicant: 佳能株式会社
Abstract: 本发明提供基板处理装置以及物品制造方法，减少配置在基板上的溶液的干燥速度的不均。基板处理装置具备：气密容器；对上述气密容器的内部进行减压的减压机构；配置在上述气密容器的内部并能保持基板的基板保持部；以及在上述气密容器的内部配置在与上述基板保持部所保持的上述基板的侧面相向的位置的壁构件。上述壁构件具有与上述基板的侧面相向的那侧的壁面。上述壁构件在上述壁面的至少一部分具有第1防液构件。
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公开(公告)号：CN116666261A
公开(公告)日：2023-08-29
申请号：CN202310140960.7
申请日：2023-02-16
Applicant: 佳能株式会社
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明提供基板处理装置、基板处理方法以及物品的制造方法。基板处理装置的特征在于通过如下干燥工序使基板上的膜进行干燥，干燥工序包括：第一干燥工序，使基板上的膜在比既定压力高的压力下进行干燥；第二干燥工序，使膜在比既定压力低的压力下进行干燥，基板处理装置具有：保持基板的基板保持部；腔室；对腔室的内部进行减压的减压机构；罩盖，其设置有开口，并且在腔室的内部中覆盖被基板保持部保持的基板；第一供给部，其向腔室的内部且为罩盖的外部即第一空间供给气体；第二供给部，其向腔室的内部且为罩盖的内部即第二空间供给气体，第一供给部在第一干燥工序中向第一空间供给气体，第二供给部在第二干燥工序中向第二空间供给气体。
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公开(公告)号：CN119329199A
公开(公告)日：2025-01-21
申请号：CN202410945285.X
申请日：2024-07-15
Applicant: 佳能株式会社
Abstract: 本发明提供一种为了缩短使基板周边的构造物干燥的处理的处理时间而有利的基板处理装置、基板处理方法及物品的制造方法。基板处理装置的特征在于，包括：气密容器；基板保持部，其配置在所述气密容器的内部，能够保持涂敷有包含溶剂的溶液的基板；减压部，其对所述气密容器的内部进行减压；划定构件，其在所述气密容器的内部划定包围所述基板的空间；传感器部，其面向由所述划定构件划定的所述空间；以及测量部，其根据溶剂是否附着于所述传感器部而输出不同的测量结果。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN119277945A
公开(公告)日：2025-01-07
申请号：CN202410884089.6
申请日：2024-07-03
Applicant: 佳能株式会社
Abstract: 本发明提供干燥装置、制造装置、物品的制造方法。期待在对由涂敷装置涂敷了墨的基板进行干燥处理时不降低干燥处理的效率的干燥装置、制造装置。干燥装置的特征在于，具备：送入口，从该送入口送入基板；保持机构，其能够保持所送入的基板并变更高度；干燥机构，其对所送入的基板进行干燥处理；以及送出口，从该送出口送出进行了干燥处理的基板，所述送入口和所述送出口设在高度不同的位置。
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公开(公告)号：CN119012877A
公开(公告)日：2024-11-22
申请号：CN202410591667.7
申请日：2024-05-14
Applicant: 佳能株式会社
Abstract: 本发明提供以高的处理量适当地处理基板的干燥的基板处理装置、基板的处理方法、物品的制造方法、计算机程序产品、计算机可读存储介质。使用基板处理装置的基板处理方法具备：将具有膜的基板载置在配置在腔室的内部的基板保持部的工序；用挡板罩覆盖载置在基板保持部的基板的工序；对腔室的内部进行减压而使膜干燥的工序；使用具备分压真空计的气体分析部，单独地检测存在于由基板保持部和挡板罩包围的基板收容空间中的气体和存在于腔室和挡板罩之间的内部空间中的气体的工序；以及判定工序，使用基板收容空间中的特定的气体成分的检测结果和内部空间中的特定的气体成分的检测结果，判定与特定的气体成分有关的膜的干燥的结束。
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公开(公告)号：CN118507402A
公开(公告)日：2024-08-16
申请号：CN202410165825.2
申请日：2024-02-05
Applicant: 佳能株式会社
IPC: H01L21/677 , H10K71/13 , H10K71/70
Abstract: 本发明涉及搬送装置、系统、物品的制造方法。期望例如在从涂布装置向下一工序的处理装置搬送基板时即使以从涂布装置的搬出方向与向处理装置的搬入方向成为不同的方向的方式搬送，墨水也不容易从堤溢出的技术。一种搬送装置，其特征在于，包括搬送机构，所述搬送机构将对凹部付与了液体的基板沿着俯视观察的第一方向从第一处理部搬出并且沿着与所述第一方向不同的第二方向将所述基板搬入第二处理部，所述搬送机构在沿着所述第一方向搬出所述基板时以俯视观察的所述凹部的长方向成为与所述第一方向交叉的方向的方式保持所述基板，在沿着所述第二方向将所述基板搬入时以俯视观察的所述凹部的长方向成为与所述第二方向交叉的方向的方式保持所述基板。
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公开(公告)号：CN118237241A
公开(公告)日：2024-06-25
申请号：CN202311748207.2
申请日：2023-12-19
Applicant: 佳能株式会社
Abstract: 本发明提供降低配置在基板之上的溶液的干燥速度的偏差且提高干燥速度的基板处理装置和物品的制造方法。基板处理装置具备：气密容器；减压机构，对所述气密容器的内部进行减压；基板保持部，配置于所述气密容器的内部，且能够保持基板；以及旋转构件，在所述气密容器的内部配置于与保持于所述基板保持部的所述基板相向的位置，且能够相对于所述基板保持部旋转。
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公开(公告)号：CN119369843A
公开(公告)日：2025-01-28
申请号：CN202410982674.X
申请日：2024-07-22
Applicant: 佳能株式会社
Abstract: 本发明提供一种有利于缩短使气密容器的内壁面干燥所需要的时间的基板处理装置、基板处理方法及物品的制造方法。基板处理装置包括：气密容器；基板保持部，其配置在所述气密容器的内部，能够保持涂敷有溶液的基板；气体导入部，其能够向所述气密容器的内部导入气体；以及气体排出部，其能够从所述气密容器的内部排出气体，所述气体导入部具有在所述气密容器的内部开口的第1导入口，所述气体排出部具有在所述气密容器的内部开口的第1排气口，所述基板保持部的上表面包含第1区域和所述第1区域的外侧的第2区域，所述基板配置于所述第1区域，所述第1导入口以在所述气密容器的顶部和所述第2区域之间形成气帘的方式向所述气密容器的内部喷射气体。
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