掩模图案生成方法、记录介质和信息处理装置

    公开(公告)号:CN104238261A

    公开(公告)日:2014-12-24

    申请号:CN201410256948.3

    申请日:2014-06-11

    CPC classification number: G03F1/70 G03F1/36 G06F17/50 G06F17/5068 G06T7/001

    Abstract: 一种掩模图案生成方法、记录介质和信息处理装置。还涉及一种用于通过处理器进行的计算来生成用于曝光装置的掩模的图案的方法,包括:在代表性辅助图案的位置相对于代表性主图案改变的同时对目标主图案应用对于多个位置中的每一个所计算出的、代表性主图案的图像的特性值相对于代表性辅助图案的位置的参考图,并且计算目标主图案的图像的特性值相对于辅助图案的位置的图,并且通过使用目标主图案的图像的特性值的图的数据来确定辅助图案的位置和生成包括目标主图案和所确定的辅助图案的掩模的图案。

    原版数据生成方法、原版生成方法、曝光方法和器件制造方法

    公开(公告)号:CN101354529A

    公开(公告)日:2009-01-28

    申请号:CN200810130060.X

    申请日:2008-07-24

    Inventor: 山添贤治

    CPC classification number: G03F1/36

    Abstract: 本发明涉及原版数据生成方法、原版生成方法、曝光方法和器件制造方法。所述原版数据生成方法包括:基于表示利用照明光在投影光学系统的光瞳面上形成的光强度分布的函数以及投影光学系统的光瞳函数,计算二维透射交叉系数;基于所计算出的二维透射交叉系数和投影光学系统的物面上的第一图案,计算近似空间像,所述近似空间像是通过投影光学系统的像面上的空间像的多个分量中的至少一个分量对所述空间像进行近似而获得的;基于所述近似空间像,生成具有所述物面上的第一图案以及辅助图案的另一图案;以及生成原版数据,所述原版数据包括通过使用由所述生成处理生成的所述另一图案作为所述物面上的第一图案重复地执行所述计算处理和所述生成处理而生成的图案。

    曝光方法及装置
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1703656A

    公开(公告)日:2005-11-30

    申请号:CN02801862.1

    申请日:2002-04-24

    Abstract: 本发明公开了一种曝光方法,包括在掩模上形成这样一种分布,即一个接触孔图案和多个均小于接触孔图案的图案;并利用多种光对掩模照明,从而通过投影光学系统分辨靶上没有较小图案的接触孔图案。

    掩模图案生成方法、记录介质和信息处理装置

    公开(公告)号:CN104238261B

    公开(公告)日:2018-02-23

    申请号:CN201410256948.3

    申请日:2014-06-11

    CPC classification number: G03F1/70 G03F1/36 G06F17/50 G06F17/5068 G06T7/001

    Abstract: 一种掩模图案生成方法、记录介质和信息处理装置。还涉及一种用于通过处理器进行的计算来生成用于曝光装置的掩模的图案的方法,包括:在代表性辅助图案的位置相对于代表性主图案改变的同时对目标主图案应用对于多个位置中的每一个所计算出的、代表性主图案的图像的特性值相对于代表性辅助图案的位置的参考图,并且计算目标主图案的图像的特性值相对于辅助图案的位置的图,并且通过使用目标主图案的图像的特性值的图的数据来确定辅助图案的位置和生成包括目标主图案和所确定的辅助图案的掩模的图案。

    原版数据生成方法、原版生成方法、曝光方法和器件制造方法

    公开(公告)号:CN101354529B

    公开(公告)日:2011-07-20

    申请号:CN200810130060.X

    申请日:2008-07-24

    Inventor: 山添贤治

    CPC classification number: G03F1/36

    Abstract: 本发明涉及原版数据生成方法、原版生成方法、曝光方法和器件制造方法。所述原版数据生成方法包括:基于表示利用照明光在投影光学系统的光瞳面上形成的光强度分布的函数以及投影光学系统的光瞳函数,计算二维透射交叉系数;基于所计算出的二维透射交叉系数和投影光学系统的物面上的第一图案,计算近似空间像,所述近似空间像是通过投影光学系统的像面上的空间像的多个分量中的至少一个分量对所述空间像进行近似而获得的;基于所述近似空间像,生成具有所述物面上的第一图案以及辅助图案的另一图案;以及生成原版数据,所述原版数据包括通过使用由所述生成处理生成的所述另一图案作为所述物面上的第一图案重复地执行所述计算处理和所述生成处理而生成的图案。

    被检面的形状的测量装置、计算方法和设备及被检面加工方法

    公开(公告)号:CN102713507B

    公开(公告)日:2015-01-21

    申请号:CN200980162497.4

    申请日:2009-11-19

    Inventor: 山添贤治

    Abstract: 测量装置包括测量单元和计算单元。该测量单元设定被检面的一部分作为测量范围,并且测量该被检面的形状以便在多个测量范围中,每一个测量范围与其它测量范围中的至少一个形成重叠区域。计算单元计算以如下方式在测量范围中计算被检面的形状:读出每一测量范围中的测量数据,并且通过多项式表达每一测量的误差,该多项式包含其系数值针对各测量范围设定被设定的项,和其系数值在不考虑各测量范围设定的情况下被设定的项;该多项式的各系数值是通过将重叠区域中的多项式的每个项的数据以及测量数据代入通过使用最小二乘法由重叠区域中的测量数据获得的多项式的各系数的矩阵方程、并且对于已被代入该数据的矩阵方程执行奇异值分解而获得的;以及通过使用各系数校正各测量范围的测量数据。

    用于测量被检面的形状的装置和用于计算被检面的形状的程序

    公开(公告)号:CN102713507A

    公开(公告)日:2012-10-03

    申请号:CN200980162497.4

    申请日:2009-11-19

    Inventor: 山添贤治

    Abstract: 测量装置包括测量单元和计算单元。该测量单元设定被检面的一部分作为测量范围,并且测量该被检面的形状以便在多个测量范围中,每一个测量范围与其它测量范围中的至少一个形成重叠区域。计算单元计算以如下方式在测量范围中计算被检面的形状:读出每一测量范围中的测量数据,并且通过多项式表达每一测量的误差,该多项式包含其系数值针对各测量范围设定被设定的项,和其系数值在不考虑各测量范围设定的情况下被设定的项;该多项式的各系数值是通过将重叠区域中的多项式的每个项的数据以及测量数据代入通过使用最小二乘法由重叠区域中的测量数据获得的多项式的各系数的矩阵方程、并且对于已被代入该数据的矩阵方程执行奇异值分解而获得的;以及通过使用各系数校正各测量范围的测量数据。

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