半导体装置
    1.
    发明公开
    半导体装置 审中-实审

    公开(公告)号:CN117410296A

    公开(公告)日:2024-01-16

    申请号:CN202310847703.7

    申请日:2023-07-11

    Abstract: 本公开涉及半导体装置。提供了其中堆叠有半导体层的半导体装置。第一结构布置在第一半导体层与第二半导体层之间。第二结构布置在第二半导体层与第三半导体层之间。在到第三半导体层的正投影中,第三半导体层中布置有元件的区域是第一区域,并且第一区域与第三半导体层的周边部之间的区域是第二区域。在第二区域中,布置有延伸通过第三半导体层、第二结构和第二半导体层并且暴露布置在第一结构中的电极的开口。在第一区域与开口之间,在与第二半导体层相同的高度处布置有绝缘体。

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