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公开(公告)号：CN102047344B
公开(公告)日：2013-11-06
申请号：CN200980112851.2
申请日：2009-04-13
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: G21K1/025 , G21K7/00 , G21K2207/005
Abstract: 提供用于X射线等的源光栅，所述用于X射线等的源光栅可增强空间相干性并且被用于X射线相衬成像。用于X射线的源光栅被放置在X射线源和被检对象之间，并被用于X射线相衬成像。用于X射线的源光栅包含由以恒定的间隔(A′)周期性地布置的突出部分形成的多个子光栅(130、120)，所述突出部分各自具有屏蔽X射线(110)的厚度(140)。通过使多个子光栅进行偏移(1/2A′)来多层地层叠所述多个子光栅。
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公开(公告)号：CN101112789A
公开(公告)日：2008-01-30
申请号：CN200710139105.5
申请日：2007-07-25
Applicant: 佳能株式会社
IPC: B29C59/02 , B29C33/42 , G11B5/84 , H01L21/027
CPC classification number: B29C59/022 , B29C2059/023 , Y10S977/887
Abstract: 一种用于制造图案化结构的工艺，包括：压印第一图案，其通过抵着压印工作层来压下表面上具有凸起－凹陷配置的压模；以及，压印第二图案，其通过将压模从第一图案的位置相对位移到该压印工作层上的另一位置，然后抵着压印工作层压下该压模。
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公开(公告)号：CN101112789B
公开(公告)日：2012-04-25
申请号：CN200710139105.5
申请日：2007-07-25
Applicant: 佳能株式会社
IPC: B29C59/02 , B29C33/42 , G11B5/84 , H01L21/027
CPC classification number: B29C59/022 , B29C2059/023 , Y10S977/887
Abstract: 一种用于制造图案化结构的工艺，包括：压印第一图案，其通过抵着压印工作层来压下表面上具有凸起-凹陷配置的压模；以及，压印第二图案，其通过将压模从第一图案的位置相对位移到该压印工作层上的另一位置，然后抵着压印工作层压下该压模。
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公开(公告)号：CN102047344A
公开(公告)日：2011-05-04
申请号：CN200980112851.2
申请日：2009-04-13
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: G21K1/025 , G21K7/00 , G21K2207/005
Abstract: 提供用于X射线等的源光栅，所述用于X射线等的源光栅可增强空间相干性并且被用于X射线相衬成像。用于X射线的源光栅被放置在X射线源和被检对象之间，并被用于X射线相衬成像。用于X射线的源光栅包含由以恒定的间隔(A′)周期性地布置的突出部分形成的多个子光栅(130、120)，所述突出部分各自具有屏蔽X射线(110)的厚度(140)。通过使多个子光栅进行偏移(1/2A′)来多层地层叠所述多个子光栅。
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