显影装置和处理盒
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN107664937A

    公开(公告)日:2018-02-06

    申请号:CN201710626609.3

    申请日:2017-07-28

    CPC classification number: G03G15/0812 G03G9/08

    Abstract: 本申请涉及一种显影装置,包括:在其表面上承载显影剂的显影剂承载构件;可旋转地支撑显影剂承载构件并且收容显影剂的显影框架构件;和管控构件,其固定到显影框架构件以管控在显影剂承载构件上所承载的显影剂,从显影剂承载构件的旋转方向的下游侧开始,管控构件具有:突出部,其具有设置用以抵接显影剂承载构件的抵接部;连接到突出部且设置用以面向显影剂承载构件的对向表面,其包括设置为自由端部的一个端部且沿着显影剂承载构件的旋转方向位于突出部的下游侧,并且该对向表面是没有反向曲线点的表面,在该表面中,对向表面与显影剂承载构件之间的距离随着远离突出部而保持恒定或减小。本申请还涉及一种处理盒。

    显影装置和图像形成装置

    公开(公告)号:CN107239021B

    公开(公告)日:2021-03-16

    申请号:CN201710189772.8

    申请日:2017-03-28

    Abstract: 本发明涉及一种用于图像形成装置中的显影装置,显影装置包括框架和显影剂承载部件。显影剂承载部件设置在框架的存储腔的下方并且具有表面,表面构造成使得多个介电部分分散在导电部分上,与布置显影剂承载部件的下部区域相比,框架的存储腔的上部区域在水平方向上被进一步扩大,在下部区域的内壁中,框架具有下部引导表面并且包括具有切平面的弯曲表面,切平面以第一角倾斜,第一角等于或大于显影剂的静止角的度数并且小于90度,并且框架具有位于上部区域的内壁中的上部引导表面,上部引导表面包括具有切平面的弯曲表面,所述切平面相对于水平面以比第一角小的第二角倾斜。本发明还涉及一种包括图像承载部件和显影装置的图像形成装置。

    显影装置和图像形成装置

    公开(公告)号:CN107239021A

    公开(公告)日:2017-10-10

    申请号:CN201710189772.8

    申请日:2017-03-28

    Abstract: 本发明涉及一种用于图像形成装置中的显影装置,显影装置包括框架和显影剂承载部件。显影剂承载部件设置在框架的存储腔的下方并且具有表面,表面构造成使得多个介电部分分散在导电部分上,与布置显影剂承载部件的下部区域相比,框架的存储腔的上部区域在水平方向上被进一步扩大,在下部区域的内壁中,框架具有下部引导表面并且包括具有切平面的弯曲表面,切平面以第一角倾斜,第一角等于或大于显影剂的静止角的度数并且小于90度,并且框架具有位于上部区域的内壁中的上部引导表面,上部引导表面包括具有切平面的弯曲表面,所述切平面相对于水平面以比第一角小的第二角倾斜。本发明还涉及一种包括图像承载部件和显影装置的图像形成装置。

    显影剂容纳单元的再制造方法

    公开(公告)号:CN105549360A

    公开(公告)日:2016-05-04

    申请号:CN201510705536.8

    申请日:2015-10-27

    Abstract: 这里提供了一种显影剂容纳单元的再制造方法,所述显影剂容纳单元包括挠性容器和框架部件,所述挠性容器设有开口并构造成容纳显影剂,所述框架部件构造成容纳挠性容器,所述再制造方法包括:将显影剂再充装在框架部件和挠性容器之间。还提供了一种显影装置、处理盒以及成像装置的再制造方法。

    分析装置
    9.
    发明公开
    分析装置 审中-公开

    公开(公告)号:CN119147600A

    公开(公告)日:2024-12-17

    申请号:CN202410753122.1

    申请日:2024-06-12

    Abstract: 本发明涉及分析装置。由于流路壁和电极相对于多孔基材的关系,难以实现电极和基材之间的密着性和抑制在高湿度环境等中由基材变形引起的电极裂纹二者,并且在某些情况下,无法实现这两者可能会妨碍离子浓度测量的正确进行。提供了一种构造,其中在实现与外部测量仪器接触的电极部中,电极具有至少一部分形成在多孔基材的内部,并且流路壁总是存在于电极所在的直线上。

    微流路装置
    10.
    发明公开
    微流路装置 审中-实审

    公开(公告)号:CN119072627A

    公开(公告)日:2024-12-03

    申请号:CN202380035920.4

    申请日:2023-04-10

    Abstract: 本发明提供一种薄且能够稳定测量的微流路装置。提供的微流路装置使用多孔基材,所述微流路装置具有利用多孔性的流路区域,并且在流路区域的一部分中具有区域A,在区域A中,具有离子选择性的成分存在于多孔基材的孔中。在区域A中,具有离子选择性的成分存在于多孔基材的一方的平面X侧的孔中,并且另一方的平面Y侧是存在空隙的流路。工作电极被设置到区域A的平面X侧的表面上,使得工作电极的至少一部分与具有离子选择性的成分重叠。基准电极被设置到流路区域的除了区域A以外的区域B。区域A和区域B形成在同一多孔基材上。

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