公开(公告)号：CN1182952C

公开(公告)日：2005-01-05

申请号：CN98115040.3

申请日：1998-06-19

Applicant: 住友重机械工业株式会社

Inventor： 加藤隆典 ,  张延平

IPC: B29C59/16 ,  H01L21/308

CPC classification number: B81C1/00126 ,  B32B3/02 ,  B32B27/06 ,  B81C2201/0159 ,  G03F7/00 ,  G03F7/075 ,  G03F7/09 ,  G03F7/2039 ,  Y10S430/167 ,  Y10S430/168

Abstract: 一种制造一个微结构的方法，包括首先制备一个包括第一膜和紧贴在第一膜上的第二膜的叠层基底，第二膜是用可以被同步辐射光所蚀刻的材料制成。一个带有一种图形的掩模件紧贴在层叠结构的第二膜的表面上或者与第二膜表面保持一段距离，掩模件的图形是由同步辐射光不能透过的材料制成。然后使同步辐射光通过掩模件照射在第二膜的部分表面上以便将照射到的部分侵蚀掉并且将第一膜的部分表面区域暴露在一个蚀刻区域的底部上。

公开(公告)号：CN1203148A

公开(公告)日：1998-12-30

申请号：CN98115040.3

申请日：1998-06-19

Applicant: 住友重机械工业株式会社

Inventor： 加藤隆典 ,  张延平

IPC: B29C59/16 ,  H01L21/308

CPC classification number: B81C1/00126 ,  B32B3/02 ,  B32B27/06 ,  B81C2201/0159 ,  G03F7/00 ,  G03F7/075 ,  G03F7/09 ,  G03F7/2039 ,  Y10S430/167 ,  Y10S430/168

Abstract: 一种制造一个微结构的方法,包括首先制备一个包括第一膜和紧贴在第一膜上的第二膜的叠层基底,第二膜是用可以被同步辐射光所蚀刻的材料制成。一个带有一种图形的掩模件紧贴在层叠结构的第二膜的表面上或者与第二膜表面保持一段距离,掩模件的图形是由同步辐射光不能透过的材料制成。然后使同步辐射光通过掩模件照射在第二膜的部分表面上以便将照射到的部分侵蚀掉并且将第一膜的部分表面区域暴露在一个蚀刻区域的底部上。