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公开(公告)号：CN1997779B
公开(公告)日：2011-10-19
申请号：CN200580023975.5
申请日：2005-06-14
Applicant: 住友电气工业株式会社 , 财团法人国际超电导产业技术研究中心
CPC classification number: H01L39/2461 , C23C14/024 , C23C14/028 , C30B29/22
Abstract: 本发明披露了薄膜材料和制造该薄膜材料的方法，用该方法能够提高形成于基板上的膜的性质。超导线材1包括基板2、形成于基板上并包括一层或至少两层的中间薄膜层(中间层3)、和形成于中间薄膜层(中间层3)上的单晶薄膜层(超导层4)。在中间薄膜层(中间层3)的至少一层中与单晶薄膜层(超导层4)相对的上表面(被研磨面10)是研磨过的。
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公开(公告)号：CN1492940A
公开(公告)日：2004-04-28
申请号：CN01823013.X
申请日：2001-12-10
Applicant: 住友电气工业株式会社 , 财团法人国际超电导产业技术研究中心
CPC classification number: C23C14/225 , C23C14/28 , C30B23/02 , C30B29/16 , C30B29/22 , C30B29/225 , H01L39/2461 , Y10T428/12493
Abstract: 本发明制造出一种具有均匀厚度并且具有一平行于基板主表面的晶轴的薄膜。在一种淀积方法中，通过从靶(12)的表面散射出一种淀积材料并且使得散射出的这种淀积材料在一基板(100)的主表面(100a)上生长而形成一薄膜。该方法包括下述步骤：将基板(100)定位成第一状态，在该状态下，一端部(100f)与靶(12)之间的距离较小，而另一端部(100e)与靶(12)之间的距离相对较大；在第一状态下在基板(100)上成形一第一薄膜(110)；将基板(100)定位成第二状态，在该状态下，一端部(100f)与靶(12)之间的距离较大，而另一端部(100e)与靶(12)之间的距离较小；以及在第二状态下在第一薄膜(110)上成形一第二薄膜(120)。
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公开(公告)号：CN101111906B
公开(公告)日：2013-03-13
申请号：CN200680003415.8
申请日：2006-01-26
Applicant: 住友电气工业株式会社 , 财团法人国际超电导产业技术研究中心
CPC classification number: H01L39/2448 , H01L39/143
Abstract: 提供了超导薄膜材料(1)，其包括具有经过平滑处理的表面的第一超导薄膜(1a)和在经过该平滑处理的第一超导薄膜(1a)的表面上形成的第二超导薄膜(1b)。而且，提供了超导导线(10)，其包括基板(2)，形成在基板(2)上的中间层(3)，形成在中间层(3)上的超导层(4)，其中该超导层(4)由上述的超导薄膜材料(1)制成。而且，提供了制造超导薄膜材料(1)的方法和制造超导导线(10)的方法。
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公开(公告)号：CN101111906A
公开(公告)日：2008-01-23
申请号：CN200680003415.8
申请日：2006-01-26
Applicant: 住友电气工业株式会社 , 财团法人国际超电导产业技术研究中心
CPC classification number: H01L39/2448 , H01L39/143
Abstract: 提供了超导薄膜材料(1)，其包括具有经过平滑处理的表面的第一超导薄膜(1a)和在经过该平滑处理的第一超导薄膜(1a)的表面上形成的第二超导薄膜(1b)。而且，提供了超导导线(10)，其包括基板(2)，形成在基板(2)上的中间层(3)，形成在中间层(3)上的超导层(4)，其中该超导层(4)由上述的超导薄膜材料(1)制成。而且，提供了制造超导薄膜材料(1)的方法和制造超导导线(10)的方法。
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公开(公告)号：CN1215196C
公开(公告)日：2005-08-17
申请号：CN01823013.X
申请日：2001-12-10
Applicant: 住友电气工业株式会社 , 财团法人国际超电导产业技术研究中心
CPC classification number: C23C14/225 , C23C14/28 , C30B23/02 , C30B29/16 , C30B29/22 , C30B29/225 , H01L39/2461 , Y10T428/12493
Abstract: 本发明制造出一种具有均匀厚度并且具有一平行于基板主表面的晶轴的薄膜。在一种淀积方法中，通过从靶(12)的表面散射出一种淀积材料并且使得散射出的这种淀积材料在一基板(100)的主表面(100a)上生长而形成一薄膜。该方法包括下述步骤：将基板(100)定位成第一状态，在该状态下，一端部(100f)与靶(12)之间的距离较小，而另一端部(100e)与靶(12)之间的距离相对较大；在第一状态下在基板(100)上成形一第一薄膜(110)；将基板(100)定位成第二状态，在该状态下，一端部(100f)与靶(12)之间的距离较大，而另一端部(100e)与靶(12)之间的距离较小；以及在第二状态下在第一薄膜(110)上成形一第二薄膜(120)。
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公开(公告)号：CN1997779A
公开(公告)日：2007-07-11
申请号：CN200580023975.5
申请日：2005-06-14
Applicant: 住友电气工业株式会社 , 财团法人国际超电导产业技术研究中心
CPC classification number: H01L39/2461 , C23C14/024 , C23C14/028 , C30B29/22
Abstract: 本发明披露了薄膜材料和制造该薄膜材料的方法，用该方法能够提高形成于基板上的膜的性质。超导线材1包括基板2、形成于基板上并包括一层或至少两层的中间薄膜层(中间层3)、和形成于中间薄膜层(中间层3)上的单晶薄膜层(超导层4)。在中间薄膜层(中间层3)的至少一层中与单晶薄膜层(超导层4)相对的上表面(被研磨面10)是研磨过的。
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公开(公告)号：CN101427324A
公开(公告)日：2009-05-06
申请号：CN200780014089.5
申请日：2007-04-17
Applicant: 住友电气工业株式会社
CPC classification number: H01B12/06 , H01L39/2464 , Y02E40/642
Abstract: 提供一种超导线材的宽度加工方法，其中对利用宽基片形成的超导线材执行开槽处理，并且生产效率高且不破坏超导特性。该方法包括预备超导线材(S)的步骤和由加工部分(31－35)切割超导线材S的步骤，其中每个加工部分具有两个相对的切割部分(21－30)。至少两组加工部分(31－35)在超导线材S的宽度方向上具有一间距地彼此邻近设置，从而将超导线材S插入在两个切割部分(21－30)之间。切割部分(23，26，27，30)的与超导线材S的一个表面(S2)接触的接触位置定位成沿超导线材(S)的宽度方向上相对于切割部分(24，25，28，29)的与超导线材(S)的另一个表面(S1)接触的接触位置的外侧。
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公开(公告)号：CN1823393A
公开(公告)日：2006-08-23
申请号：CN200480020328.4
申请日：2004-07-01
Applicant: 住友电气工业株式会社
IPC: H01B13/00
CPC classification number: H01L39/2448
Abstract: 一种用于制造氧化物超导线的方法，包括在与用于氧化物制备的靶(7)最多100mm的距离(L)的位置设置金属带(6)的步骤；和采用气相淀积法在所述金属带(6)上形成氧化物超导层的步骤，同时保持所述金属带(6)与所述靶(7)之间保持最多100mm的距离(L)以5m/h或以上的速度传输所述金属带(6)。
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公开(公告)号：CN101268523A
公开(公告)日：2008-09-17
申请号：CN200680034101.4
申请日：2006-08-30
Applicant: 住友电气工业株式会社
CPC classification number: H01L39/248
Abstract: 本发明的目的在于提供一种能够降低制造成本并且提高超导线的机械强度的制造超导线的方法，以及包括由该方法获得的超导线的超导设备。本发明提供一种制造超导线的方法，包括步骤：在基板或形成于基板上的中间层上形成超导层，在超导层上形成银稳定层，在基板上形成超导层和银稳定层之后将基板浸入硫酸铜溶液中，和用硫酸铜溶液作为电镀液通过电镀在银稳定层上形成铜稳定层。还提供了一种包括由该方法获得的超导线的超导设备。
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公开(公告)号：CN101069248A
公开(公告)日：2007-11-07
申请号：CN200680001337.8
申请日：2006-09-07
Applicant: 住友电气工业株式会社
Inventor： 大松一也
CPC classification number: H01B12/06 , H01F6/06 , H01F17/0033 , H01F41/041 , H01F41/048 , H01F41/061 , H01L39/143 , H01L39/2464 , Y02E40/642
Abstract: 提供一种具有与长导线类似的效果的带状超导线，一种用于制造这样的带状超导线的方法，以及一种利用这样的超导线的超导装置。该方法包括：制备带基板的步骤；在带基板上形成中间薄层12的步骤；在中间薄层上形成从一个端部延伸到另一个端部的超导层的步骤；以及在超导层中形成从一个端部延伸到另一个端部的至少一个分割区域的机械加工步骤，其中所述至少一个分割区域是在超导层的临界温度处不会达到超导状态的区域。
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