公开(公告)号：CN1151387A

公开(公告)日：1997-06-11

申请号：CN96114533.1

申请日：1996-11-08

Applicant: 住友电气工业株式会社

Inventor： 中田成二 ,  山川晃

IPC: C04B35/584 ,  C01B21/068

CPC classification number: C04B35/591

Abstract: 一种淤浆状硅基组合物，它包含有表面氧化膜厚度在1.5到15nm范围的Si粉末、50到90％重量的水、0.2到7.5％重量的以氧化物表示的烧结助剂和0.05到3％重量的分散剂，硅基组合物的pH值被调节到8-12。该硅基组合物的制备工艺包括在空气中于200至800℃对硅粉末进行氧化处理，向氧化后的Si粉末中添加50到90％重量的水、0.2到7.5％重量的以氧化物表示的烧结助剂和0.05到3％重量的分散剂，调节pH值使最终混合物的pH值为8到12。

公开(公告)号：CN1076331C

公开(公告)日：2001-12-19

申请号：CN96114533.1

申请日：1996-11-08

Applicant: 住友电气工业株式会社

Inventor： 中田成二 ,  山川晃

IPC: C04B35/584 ,  C01B21/068

CPC classification number: C04B35/591

Abstract: 一种淤浆状硅基组合物，它包含有表面氧化膜厚度在1.5到15nm范围的Si粉末、50到90%重量的水、0.2到7.5%重量的以氧化物表示的烧结助剂和0.05到3%重量的分散剂，硅基组合物的pH值被调节到8-12。该硅基组合物的制备工艺包括在空气中于200到800℃对硅粉末进行氧化处理，向氧化后的Si粉末中添加50到90%重量的水、0.2到7.5%重量的以氧化物表示的烧结助剂和0.05到3%重量的分散剂，调节pH值使最终混合物的pH值为8到12。