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公开(公告)号：CN107076906B
公开(公告)日：2020-10-13
申请号：CN201580050228.4
申请日：2015-09-17
Applicant: 住友化学株式会社
IPC: G02B5/30 , G02F1/1335
Abstract: 本发明涉及一种偏振片的制造方法，更详细而言，本发明的偏振片的制造方法包含偏振片形成用膜的溶胀、染色、交联及拉伸步骤，上述溶胀步骤、上述染色步骤及上述交联步骤以此顺序进行，上述拉伸步骤的至少一部分在上述染色步骤中、和/或上述染色步骤前进行，在上述染色步骤结束时，拉伸方向的偏振片形成用膜内的结晶与结晶之间的距离为20～40nm，染色液包含硼酸化合物。
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公开(公告)号：CN106662696A
公开(公告)日：2017-05-10
申请号：CN201580044385.4
申请日：2015-08-20
Applicant: 住友化学株式会社
IPC: G02B5/30
CPC classification number: G02B5/30
Abstract: 本发明提供一种偏振片的制造方法，更具体而言，提供如下的偏振片的制造方法，其包括对偏振片形成用膜进行溶胀、染色、交联、补色及第一拉伸的步骤，依次进行溶胀步骤、染色步骤、交联步骤、以及补色步骤，在补色步骤前进行第一拉伸步骤，在补色步骤中对偏振片形成用膜以1.010至1.100倍的拉伸比进行第二拉伸，由此可以制造即使在长时间暴露于高温条件下的情况下色调变化也被最小化的偏振片。
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公开(公告)号：CN107111043B
公开(公告)日：2018-08-28
申请号：CN201680005705.X
申请日：2016-11-02
Applicant: 住友化学株式会社
IPC: G02B5/30 , G02F1/1335 , H01L51/50 , H05B33/02
CPC classification number: G02B5/30 , G02F1/1335 , H01L51/50 , H05B33/02
Abstract: 本发明提供一种偏振片，其取向度为0.250至0.400，吸收轴方向的收缩力为3.5N/2mm以下，所述取向度由下述的数学式1得到。(式中，AMD为在偏振片的吸收轴方向上进行偏振的红外光的吸光度，ATD为在偏振片的透射轴方向上进行偏振的红外光的吸光度，Alarge为AMD与ATD当中高的一方的吸光度，Asmall为AMD与ATD当中低的一方的吸光度。)
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公开(公告)号：CN107111043A
公开(公告)日：2017-08-29
申请号：CN201680005705.X
申请日：2016-11-02
Applicant: 住友化学株式会社
IPC: G02B5/30 , G02F1/1335 , H01L51/50 , H05B33/02
CPC classification number: G02B5/30 , G02F1/1335 , H01L51/50 , H05B33/02
Abstract: 本发明提供一种偏振片，其取向度为0.250至0.400，吸收轴方向的收缩力为3.5N/2mm以下，所述取向度由下述的数学式1得到。(式中，AMD为在偏振片的吸收轴方向上进行偏振的红外光的吸光度，ATD为在偏振片的透射轴方向上进行偏振的红外光的吸光度，Alarge为AMD与ATD当中高的一方的吸光度，Asmall为AMD与ATD当中低的一方的吸光度。)
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN114815028A
公开(公告)日：2022-07-29
申请号：CN202111602512.1
申请日：2016-01-21
Applicant: 住友化学株式会社
Abstract: 本发明提供一种偏振片，其满足下式：0.7≤A700/A480≤1.0、A700＝－Log10{(TMD，700×TTD，700)/10000}、A480＝－Log10{(TMD，480×TTD，480)/10000}TMD，700及TTD，700分别是将所述偏振片配置为所述偏振片的吸收轴与测定光的直线偏振光正交的状态及平行的状态时得到的700nm波长下的透射率，TMD，480及TTD，480分别是将所述偏振片配置为所述偏振片的吸收轴与测定光的直线偏振光正交的状态及平行的状态时得到的480nm波长下的透射率，它们的单位均为％。
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公开(公告)号：CN107850723A
公开(公告)日：2018-03-27
申请号：CN201680045107.5
申请日：2016-08-17
Applicant: 住友化学株式会社
Abstract: 本发明提供一种偏振板，其包含：凹凸平均间隔(RSm)为500至5000μm、最大高度粗糙度(Rt)为100至1000nm的偏振片；形成于所述偏振片的至少一面的厚250至850nm的粘接层；以及层叠于所述粘接层上的保护膜。
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公开(公告)号：CN107765353A
公开(公告)日：2018-03-06
申请号：CN201710701567.5
申请日：2017-08-16
Applicant: 住友化学株式会社
CPC classification number: G02B5/3033 , C08J3/24 , C08J3/28 , C08J7/00 , C08J2329/04 , D06P3/58
Abstract: 本发明提供偏振膜的制造方法及制造装置，其能够得到光学特性和耐久性均优异的偏振膜。一种偏振膜的制造方法，其为由聚乙烯醇系树脂膜制造偏振膜的方法，所述偏振膜的制造方法包括：用二色性色素对所述聚乙烯醇系树脂膜进行染色处理的染色工序，用交联剂对所述染色工序后的所述聚乙烯醇系树脂膜进行交联处理的交联工序，对所述交联工序后的所述聚乙烯醇系树脂膜照射包含红外线的电磁波的电磁波照射工序，和将照射所述电磁波后的所述聚乙烯醇系树脂膜曝露于绝对湿度为80g/m3以上的气氛的高湿处理工序。
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公开(公告)号：CN114167539A
公开(公告)日：2022-03-11
申请号：CN202111519263.X
申请日：2017-08-16
Applicant: 住友化学株式会社
Abstract: 本发明提供偏振膜的制造方法及制造装置，其能够得到光学特性和耐久性均优异的偏振膜。一种偏振膜的制造方法，其为由聚乙烯醇系树脂膜制造偏振膜的方法，所述偏振膜的制造方法包括：用二色性色素对所述聚乙烯醇系树脂膜进行染色处理的染色工序，用交联剂对所述染色工序后的所述聚乙烯醇系树脂膜进行交联处理的交联工序，对所述交联工序后的所述聚乙烯醇系树脂膜照射包含红外线的电磁波的电磁波照射工序，和将照射所述电磁波后的所述聚乙烯醇系树脂膜曝露于绝对湿度为80g/m3以上的气氛的高湿处理工序。
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