公开(公告)号：CN101995770A

公开(公告)日：2011-03-30

申请号：CN201010250473.9

申请日：2010-08-06

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 嶋田雅彦 ,  市川幸司

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/00

CPC classification number: G03F7/0397 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/2041

Abstract: 本发明提供一种光刻胶组合物，所述组合物包含树脂，所述树脂包含由具有酸敏基团的化合物得到的结构单元和由式(a)所代表的化合物得到的结构单元：其中R1代表氢原子、卤素原子、C1-C6烷基或C1-C6卤代烷基，k代表1-6的整数，W1代表C6-C18二价芳族烃基，其可具有一个或更多个选自卤素原子、羟基、C1-C12烷基、C1-C12烷氧基、C6-C14芳基、C7-C15芳烷基、缩水甘油氧基和C2-C4酰基的取代基，R2代表氢原子、式(R2-1)所代表的基团或式(R2-2)所代表的基团，其中R3、R4和R5各自独立地代表C1-C12烃基且R3和R4可彼此键合形成环，R6和R7各自独立地代表氢原子或C1-C12烃基，R8代表C1-C12烃基，且所述树脂不溶于或难溶于碱性水溶液但在酸的作用下变为可溶于碱性水溶液。

公开(公告)号：CN101644895A

公开(公告)日：2010-02-10

申请号：CN200910160590.3

申请日：2009-08-04

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 嶋田雅彦 ,  桥本和彦 ,  山口训史 ,  金淳信 ,  高田佳幸 ,  平冈崇志

IPC: G03F7/039

CPC classification number: G03F7/0397 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/111

Abstract: 本发明提供了一种化学增幅正性抗蚀剂组合物，其包含：包含由结构式(I)表示的结构单元的树脂，其中，R1代表氢原子、卤素原子、C1-C4烷基或C1-C4全氟化烷基；Z代表单键或-(CH2)k-CO-X4-，k代表1至4的整数；X1、X2、X3和X4各自独立地代表氧原子或硫原子；m代表1至3的整数；而n代表0至3的整数；以及产酸剂。

公开(公告)号：CN101644894A

公开(公告)日：2010-02-10

申请号：CN200910160391.2

申请日：2009-08-05

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 嶋田雅彦 ,  桥本和彦 ,  重松淳二 ,  宫川贵行 ,  山本敏

IPC: G03F7/039

CPC classification number: G03F7/0397 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0395 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/111

Abstract: 本发明提供了一种化学增幅正性抗蚀剂组合物，其包含：树脂(A)，其包含具有酸不稳定性基团的结构单元，并且本身不溶于或微溶于碱性水溶液，但是在酸的作用下变得可溶于碱性水溶液；树脂(B)，其包含由结构式(I)表示的结构单元和在侧链中具有氟原子的结构单元，其中，R1代表氢原子、卤素原子、C1-C4烷基或C1-C4全氟化烷基；Z代表单键或-(CH2)k-CO-X4-，k代表1至4的整数；X1、X2、X3和X4各自独立地代表氧原子或硫原子；m代表1至3的整数；而n代表0至3的整数；以及产酸剂。