公开(公告)号：CN1845860B

公开(公告)日：2011-01-19

申请号：CN200480025240.1

申请日：2004-05-18

Applicant: 伊利诺斯器械工程公司

Inventor： 瓦罗里斯·L·弗西斯

IPC: B65D85/48 ,  B65D85/30 ,  B65D21/00

CPC classification number: H01L21/67369 ,  H01L21/67386

Abstract: 该晶片盒包括托盘(10)和盖(62)。托盘(10)包括内壁(34，36，38，40)和外壁(26，28，30，32)结构，其间具有水平半圆形槽(48，50，52，54)来实现隔离、加固和水平震动吸收功能。托盘(10)还包括形成在内壁(34，36，38，40)里的晶片腔(42)。晶片腔(42)的底面上包括脊格(46)以提供垂直震动吸收功能。盖(62)的壁(76，78，80，82)接合并配合托盘(10)外壁(24，26，28，30)，由此形成双重壁结构。底座结构(90，92)形成在盖(62)顶部的拐角和中部，用于在相互堆叠的盒间提供抵消间隙以通过相互堆叠结构最小化或消除冲击和振动的传递。

公开(公告)号：CN1845860A

公开(公告)日：2006-10-11

申请号：CN200480025240.1

申请日：2004-05-18

Applicant: 伊利诺斯器械工程公司

Inventor： 瓦罗里斯·L·弗西斯

IPC: B65D85/48 ,  B65D85/30 ,  B65D21/00

CPC classification number: H01L21/67369 ,  H01L21/67386

Abstract: 该晶片盒包括托盘(10)和盖(62)。托盘(10)包括内壁(34，36，38，40)和外壁(26，28，30，32)结构，其间具有水平半圆形槽(48，50，52，54)来实现隔离、加固和水平震动吸收功能。托盘(10)还包括形成在内壁(34，36，38，40)里的晶片腔(42)。晶片腔(42)的底面上包括脊格(46)以提供垂直震动吸收功能。盖(62)的壁(76，78，80，82)接合并配合托盘(10)外壁(24，26，28，30)，由此形成双重壁结构。底座结构(90，92)形成在盖(62)顶部的拐角和中部，用于在相互堆叠的盒间提供抵消间隙以通过相互堆叠结构最小化或消除冲击和振动的传递。