公开(公告)号：CN107450209A

公开(公告)日：2017-12-08

申请号：CN201710940347.8

申请日：2017-09-30

Applicant: 京东方科技集团股份有限公司 ,  合肥鑫晟光电科技有限公司

Inventor： 李涛 ,  张倩 ,  闫旭 ,  席莹 ,  杨月亮 ,  叶斌 ,  魏平玉

IPC: G02F1/13 ,  G02F1/1335

Abstract: 本发明提供了一种亮点修复方法及彩膜基板。所述方法应用于彩膜基板，彩膜基板包括基板以及在基板上阵列排布的黑矩阵和色阻层，方法包括：对待修复色阻层进行多次激光镭射，以在待修复色阻层和基板之间形成间隙，其中，相邻两次激光镭射的时间间隔大于预设时长；对待修复色阻层邻近的黑矩阵进行颗粒化处理，得到黑矩阵颗粒，并将黑矩阵颗粒填充至间隙内，以将待修复色阻层处理为暗点。由于相邻两次激光镭射的时间间隔大于预设时长，因此照射至待修复色阻层和黑矩阵内的激光热量在该时间间隔内可以有效消散，由待修复色阻层和黑矩阵的有机材质生成的气体体积冷缩，避免了待修复色阻层受热膨胀破裂，保证了彩膜基板的维修质量。

公开(公告)号：CN107450209B

公开(公告)日：2021-01-15

申请号：CN201710940347.8

申请日：2017-09-30

Applicant: 京东方科技集团股份有限公司 ,  合肥鑫晟光电科技有限公司

Inventor： 李涛 ,  张倩 ,  闫旭 ,  席莹 ,  杨月亮 ,  叶斌 ,  魏平玉

IPC: G02F1/13 ,  G02F1/1335

Abstract: 本发明提供了一种亮点修复方法及彩膜基板。所述方法应用于彩膜基板，彩膜基板包括基板以及在基板上阵列排布的黑矩阵和色阻层，方法包括：对待修复色阻层进行多次激光镭射，以在待修复色阻层和基板之间形成间隙，其中，相邻两次激光镭射的时间间隔大于预设时长；对待修复色阻层邻近的黑矩阵进行颗粒化处理，得到黑矩阵颗粒，并将黑矩阵颗粒填充至间隙内，以将待修复色阻层处理为暗点。由于相邻两次激光镭射的时间间隔大于预设时长，因此照射至待修复色阻层和黑矩阵内的激光热量在该时间间隔内可以有效消散，由待修复色阻层和黑矩阵的有机材质生成的气体体积冷缩，避免了待修复色阻层受热膨胀破裂，保证了彩膜基板的维修质量。