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公开(公告)号：CN119225059A
公开(公告)日：2024-12-31
申请号：CN202310809382.1
申请日：2023-06-30
Applicant: 合肥京东方光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司 , 北京京东方技术开发有限公司
IPC: G02F1/1333 , G02F1/1343
Abstract: 显示基板及其制备方法、显示装置，涉及显示技术领域。显示基板包括第一显示区域，所述第一显示区域的显示基板包括：衬底基板，包括开口区域和非开口区域；第一透明导电层，位于所述衬底基板的一侧，所述第一透明导电层在所述衬底基板上的正投影与所述开口区域有交叠；以及钝化层，覆盖在所述第一透明导电层背离所述衬底基板的一侧；其中，所述第一透明导电层包括：层叠设置的第一导电子膜层和第二导电子膜层，所述第一导电子膜层的氧含量与所述第二导电子膜层的氧含量不同。
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公开(公告)号：CN107507920B
公开(公告)日：2024-05-24
申请号：CN201710865598.4
申请日：2017-09-22
Applicant: 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥京东方光电科技有限公司
IPC: H10K50/10 , H10K50/805 , H10K50/856 , H10K71/00
Abstract: 本发明涉及显示技术领域，公开了一种有机电致发光二极管、显示基板及其制作方法、显示装置。有机电致发光二极管的第一电极包括反射导电层，所述反射导电层的靠近第二的表面具有不平整结构，所述不平整结构的设置使得第一电极和第二电极之间形成的腔体的腔厚不一致，若存在微腔效应时，能够弱化甚至消除微腔效应。而且不平整结构对光线的散射作用，能够增加光线的出射角，提升器件的发光均匀性。采用上述有机电致发光二极管，能够消除显示产品的视角问题，保证显示产品的显示效果。
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公开(公告)号：CN111785741B
公开(公告)日：2024-04-12
申请号：CN202010789894.2
申请日：2020-08-07
Applicant: 合肥京东方光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
Abstract: 本申请涉及显示领域，提供一种阵列基板及其制作方法、显示面板，在阵列基板上的指定位置开设有用于容置指定功能组件的通孔，在阵列基板上，且位于通孔周围环绕设置有环形阻挡结构，环形阻挡结构用于隔绝外界环境中的水汽经由通孔进入阵列基板，包括。应用本申请，可以隔绝外界环境中的水汽经由通孔进入阵列基板，从而减少甚至避免显示屏出现“葫芦屏”的现象。
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公开(公告)号：CN110752236B
公开(公告)日：2022-05-24
申请号：CN201911036937.3
申请日：2019-10-29
Applicant: 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥京东方光电科技有限公司
Abstract: 一种显示基板及其制备方法、显示装置，涉及显示装置技术领域，所示显示基板包括：在基底上叠设的驱动结构层和发光结构层，所述驱动结构层包括薄膜晶体管，所述发光结构层包括第一电极和用于屏蔽紫外光的屏蔽层，所述屏蔽层在所述基底上的正投影包含所述薄膜晶体管在基底上的正投影。本申请实施例的显示基板可以解决在显示基板制备过程中因采用UV掩膜版而导致生产成本增加的问题。
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公开(公告)号：CN109830513B
公开(公告)日：2021-03-16
申请号：CN201910093779.9
申请日：2019-01-30
Applicant: 合肥京东方光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
Abstract: 本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种阵列基板及其制备方法和显示面板。用以解决相关技术中像素界定层采用梯形结构所出现的咖啡环效应，以及采用倒梯形结构所出现的阴极层断层的问题。一种阵列基板，包括：衬底，以及形成在衬底上的像素界定层，像素界定层将衬底划分为多个亚像素区域；像素界定层包括从下到上依次层叠设置的第一界定层和第二界定层，第二界定层的下表面的宽度大于第一界定层的上表面的宽度，以在第一界定层沿宽度方向的两侧形成相对于第二界定层的缩进结构。本发明实施例用于通过喷墨打印技术制作OLED显示面板。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN106783894B
公开(公告)日：2021-03-16
申请号：CN201710145276.2
申请日：2017-03-09
Applicant: 合肥京东方光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
Inventor： 宫奎
Abstract: 本发明提供一种阵列基板及其制备方法，涉及显示技术领域，可提高阵列基板的抗腐蚀能力。所述方法包括：在衬底上形成第一金属线、绝缘膜层、第二金属线、第一刻蚀阻挡层和钝化膜层，第一刻蚀阻挡层在衬底上的投影落入第二金属线在衬底上的投影内；通过第一次刻蚀，在钝化膜层上形成第一过孔和第二过孔；第一过孔在衬底上的投影落入第一金属线在衬底上的投影内，并暴露出绝缘膜层的表面；第二过孔在衬底上的正投影落入第一刻蚀阻挡层在衬底上的正投影内，并暴露第一刻蚀阻挡层的表面；通过第二次刻蚀，在绝缘膜层上形成第三过孔，第三过孔与第一过孔在衬底上的正投影重叠，并暴露第一金属线；去除第二过孔下方的第一刻蚀阻挡层露出第二金属线。
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公开(公告)号：CN106990574B
公开(公告)日：2021-02-02
申请号：CN201710407555.1
申请日：2017-06-02
Applicant: 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥京东方光电科技有限公司
IPC: G02F1/133 , G02F1/1333
Abstract: 提供一种阵列基板及其制作方法、显示装置及其驱动方法。该阵列基板包括：包括：第一薄膜晶体管，第二薄膜晶体管和像素电极，像素电极与所述第一薄膜晶体管和所述第二薄膜晶体管电连接，所述第一薄膜晶体管和所述第二薄膜晶体管之一为N型薄膜晶体管，另一个为P型薄膜晶体管。该阵列基板及其制作方法、显示装置及其驱动方法可以降低关断电流对像素的影响，从而避免相关不良的发生。
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公开(公告)号：CN108666325B
公开(公告)日：2021-01-22
申请号：CN201810509994.8
申请日：2018-05-24
Applicant: 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥京东方光电科技有限公司
Abstract: 本发明涉及显示技术领域，公开了一种TFT基板的制备方法、TFT基板及显示装置，该制备方法包括：在基底上形成金属导电膜层；在金属导电膜层上形成疏水绝缘膜层；在疏水绝缘膜层上涂覆光刻胶涂层，并采用曝光工艺对光刻胶涂层进行图案化处理以形成图案化的光刻胶层；对疏水绝缘膜层进行刻蚀以形成图案化的疏水绝缘层；采用铜刻蚀液对金属导电膜层进行刻蚀以形成图案化的金属电极层。上述制备方法中，在金属导电膜层上形成有疏水绝缘膜层，光刻胶涂层与疏水绝缘膜层之间黏附性较好，在后续金属导电膜层刻蚀时，避免了刻蚀液横向钻刻而造成光刻胶层脱落，进而有利于提高TFT基板的制备良率。
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公开(公告)号：CN111341849A
公开(公告)日：2020-06-26
申请号：CN202010146623.5
申请日：2020-03-05
Applicant: 合肥京东方光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
IPC: H01L29/786 , H01L27/12 , H01L21/34 , H01L21/84
Abstract: 本申请涉及显示技术领域，公开了一种显示基板及其制备方法、显示面板，目的是改善显示基板的结构，提高薄膜晶体管的特性，提高显示产品良率。显示基板包括：衬底基板；薄膜晶体管，位于所述衬底基板上；平坦化层，位于所述薄膜晶体管背离所述衬底基板的一侧，所述平坦化层设有环绕所述薄膜晶体管的沟道区设置的沟槽，所述沟槽在所述衬底基板上的正投影与所述沟道区在所述衬底基板上的正投影没有交叠。
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公开(公告)号：CN107452779B
公开(公告)日：2019-12-27
申请号：CN201710624281.1
申请日：2017-07-27
Applicant: 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥京东方光电科技有限公司
IPC: H01L27/32
Abstract: 本发明公开了一种显示基板及其制备方法、显示面板和显示装置，显示基板包括：呈阵列排布的若干个显示区域和位于显示区域之间的非显示区域；显示区域中设置有显示结构，显示结构用于进行画面显示；非显示区域可透光，非显示区域内设置有光致变色图形，光致变色图形用于根据接收到的光线的光照强度调节非显示区域的透光率。在本发明的技术方案中，通过在非显示区域中设置光致变色图形，光致变色图形可根据接收到的光线的光照强度调节非显示区域的透光率，以使得在高亮度外部环境时，显示画面上原本显示较暗图像的区域的亮度不会因为外部环境光影响而提升，从而能有效保证显示画面的对比度，提升显示质量。
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