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公开(公告)号：CN105396755B
公开(公告)日：2017-12-08
申请号：CN201511034140.1
申请日：2015-12-31
Applicant: 京东方科技集团股份有限公司 , 北京京东方显示技术有限公司
Abstract: 本发明公开了一种涂胶机头、涂胶机及涂胶方法，所述涂胶机头具有容纳胶体的腔室、连通所述腔室的扁平状的胶嘴和供胶管路，所述胶嘴的宽度延伸方向与所述腔室的轴向平行；还包括设置于所述腔室内的、可水平移动的两个隔板，两个所述隔板相对设置且平行于所述腔室的横截面。涂胶机头在腔室内设置有两个可在水平方向移动的隔板，在由隔板上的入胶口输入胶体后，隔板可以推动两隔板之间的胶体进行水平方向上的移动，使腔室内胶体的位置可以控制，进而可以控制胶嘴在基板上的涂胶位置以及涂胶机头在行进时涂覆胶体的宽度，提高涂胶机在面板上涂覆胶体位置的灵活性。
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公开(公告)号：CN103792707B
公开(公告)日：2016-04-13
申请号：CN201410050194.6
申请日：2014-02-13
Applicant: 北京京东方显示技术有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
IPC: G02F1/13
CPC classification number: G03F7/16 , G02F1/1303 , H01L21/68742
Abstract: 本发明涉及一种支撑机台，包括若干个销孔，销孔中容纳有可以上下移动的支撑销，销孔的孔壁上设置有至少一个凹槽，凹槽容纳有滚珠，所述滚珠在凹槽内自由滚动，所述滚珠位于容纳在销孔中的支撑销周围，并且凹槽的形状和大小使得每个滚珠可以在凹槽中滚动并使每个滚珠始终有一部分突出于销孔的孔壁。本发明提供的支撑机台，在销孔中设置滚珠，将支撑销偏折或弯曲时与销孔壁的滑动摩擦转化为与滚珠的滚动摩擦，这样可以减少微粒的产生，使吸附到液晶面板的微粒大为减少，从而防止液晶面板产生Shell Mura，提高产品的良率。
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公开(公告)号：CN105116574B
公开(公告)日：2018-09-11
申请号：CN201510624905.0
申请日：2015-09-25
Applicant: 京东方科技集团股份有限公司 , 北京京东方显示技术有限公司
IPC: G02F1/13
Abstract: 本发明公开了一种基板传送装置及基板清洗设备。基板传送装置，包括多个双辊单元，每个所述双辊单元包括下辊和上辊，所述下辊为主动辊，包括辊体以及设置于辊体上的多个用于支撑基板的主动滚轮；所述上辊包括第一辊体和第二辊体，所述第一辊体和第二辊体分别设置于基板垂直于传送方向的两侧上方，且所述第一辊体和第二辊体上分别设置有至少一个用于向下方基板施压的从动滚轮。本发明技术方案的基板传送装置，通过主动滚轮的转动带动基板传送，基板的传送带动从动滚轮转动，当喷洗装置释放喷洗物清洗基板时，上辊不会受到强烈振动，从而可以有效减少基板在清洗过程中损坏的可能，进而减少宕机时间，提高生产效率和产品产量。
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公开(公告)号：CN105116574A
公开(公告)日：2015-12-02
申请号：CN201510624905.0
申请日：2015-09-25
Applicant: 京东方科技集团股份有限公司 , 北京京东方显示技术有限公司
IPC: G02F1/13
CPC classification number: G02F1/1303
Abstract: 本发明公开了一种基板传送装置及基板清洗设备。基板传送装置，包括多个双辊单元，每个所述双辊单元包括下辊和上辊，所述下辊为主动辊，包括辊体以及设置于辊体上的多个用于支撑基板的主动滚轮；所述上辊包括第一辊体和第二辊体，所述第一辊体和第二辊体分别设置于基板垂直于传送方向的两侧上方，且所述第一辊体和第二辊体上分别设置有至少一个用于向下方基板施压的从动滚轮。本发明技术方案的基板传送装置，通过主动滚轮的转动带动基板传送，基板的传送带动从动滚轮转动，当喷洗装置释放喷洗物清洗基板时，上辊不会受到强烈振动，从而可以有效减少基板在清洗过程中损坏的可能，进而减少宕机时间，提高生产效率和产品产量。
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公开(公告)号：CN103792707A
公开(公告)日：2014-05-14
申请号：CN201410050194.6
申请日：2014-02-13
Applicant: 北京京东方显示技术有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
IPC: G02F1/13
CPC classification number: G03F7/16 , G02F1/1303 , H01L21/68742
Abstract: 本发明涉及一种支撑机台，包括若干个销孔，销孔中容纳有可以上下移动的支撑销，销孔的孔壁上设置有至少一个凹槽，凹槽容纳有滚珠，所述滚珠在凹槽内自由滚动，所述滚珠位于容纳在销孔中的支撑销周围，并且凹槽的形状和大小使得每个滚珠可以在凹槽中滚动并使每个滚珠始终有一部分突出于销孔的孔壁。本发明提供的支撑机台，在销孔中设置滚珠，将支撑销偏折或弯曲时与销孔壁的滑动摩擦转化为与滚珠的滚动摩擦，这样可以减少微粒的产生，使吸附到液晶面板的微粒大为减少，从而防止液晶面板产生Shell？Mura，提高产品的良率。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103560104A
公开(公告)日：2014-02-05
申请号：CN201310542460.2
申请日：2013-11-05
Applicant: 京东方科技集团股份有限公司 , 北京京东方显示技术有限公司
IPC: H01L21/683 , H01L21/677
CPC classification number: H01L21/67721 , H01L21/6831
Abstract: 本发明公开了一种真空吸附传送装置和基板传送方法，涉及显示器制造技术领域，提高了在基板固定时的可靠性。该真空吸附传送装置，包括：真空吸附板，所述真空吸附板具有中空腔体和吸附平面，所述吸附平面上设置有多个与所述中空腔体连通的吸附孔，所述真空吸附板上还设置有与所述中空腔体连通的真空管。
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公开(公告)号：CN106647172B
公开(公告)日：2020-04-03
申请号：CN201710003213.3
申请日：2017-01-03
Applicant: 京东方科技集团股份有限公司 , 北京京东方显示技术有限公司
IPC: G03F7/16
Abstract: 本发明提供一种承载装置，包括用于承载基板的承载台，所述承载台内设置有多个贯穿所述承载台的气体通道；至少一部分所述气体通道内设置有滚珠，所述承载装置还包括驱动机构，用于驱动所述滚珠朝向所述承载台上的基板移动，以将基板撑起，且所述滚珠能够沿所述基板表面滚动。相应地，本发明还提供一种涂胶设备。本发明的承载装置更便于对基板进行对位。
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公开(公告)号：CN105093588B
公开(公告)日：2018-05-08
申请号：CN201510524479.3
申请日：2015-08-24
Applicant: 京东方科技集团股份有限公司 , 北京京东方显示技术有限公司
IPC: G02F1/13 , G02F1/1333
Abstract: 本发明公开一种支撑销及吸附机台，涉及显示器制造技术领域，为解决因支撑销的吸附口磨损而导致的支撑销对基板的吸附异常的问题。所述支撑销包括：带有空心结构的支撑销主体；空心结构中设有能够使基板与支撑销主体接触和分离的支撑柱。所述吸附机台包括升降机、连接架和若干上述技术方案所提的支撑销；其中，连接架包括与升降机相连的升降板，以及位于升降板上方的导向板，支撑销的支撑柱安装在升降板上，支撑销的支撑销主体安装在导向板上，且导向板上设有与各支撑柱一一对应的导向孔。本发明提供的支撑销用于基板的检测设备中。
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公开(公告)号：CN106647172A
公开(公告)日：2017-05-10
申请号：CN201710003213.3
申请日：2017-01-03
Applicant: 京东方科技集团股份有限公司 , 北京京东方显示技术有限公司
IPC: G03F7/16
Abstract: 本发明提供一种承载装置，包括用于承载基板的承载台，所述承载台内设置有多个贯穿所述承载台的气体通道；至少一部分所述气体通道内设置有滚珠，所述承载装置还包括驱动机构，用于驱动所述滚珠朝向所述承载台上的基板移动，以将基板撑起，且所述滚珠能够沿所述基板表面滚动。相应地，本发明还提供一种涂胶设备。本发明的承载装置更便于对基板进行对位。
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公开(公告)号：CN105197536A
公开(公告)日：2015-12-30
申请号：CN201510696620.8
申请日：2015-10-23
Applicant: 京东方科技集团股份有限公司 , 北京京东方显示技术有限公司
IPC: B65G43/00
Abstract: 本发明公开了一种控制装置、运输设备及控制方法，该控制装置用于运输设备，所述运输设备包括多个用于工件传送的运送机构，每一个运送机构包括以间距可调的方式相对设置的第一辊结构和第二辊结构，所述控制装置包括：压力传感模块，用于获取所述第一辊结构和/或第二辊结构在垂直于所述工件表面的方向上对所述工件的作用力；间距调整模块，用于根据所述作用力调整所述第一辊结构和第二辊结构之间的间距。本发明提高了调整双辊运输设备的辊轮间距的精度和效率。
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