物质处理装置及物质处理方法

    公开(公告)号:CN101274233B

    公开(公告)日:2011-08-31

    申请号:CN200710307431.2

    申请日:2007-12-29

    Abstract: 一种物质处理装置以及一种物质处理方法,其中所述物质处理装置包括第一元件以及可相对旋转地至少部分收容于该第一元件内的第二元件,第一元件和第二元件之间形成一物质处理通道,第一元件与第二元件相对旋转时可使物质处理通道内的被处理物质形成库特流。该物质处理装置还包括一密封腔,位于所述物质处理通道的一端,以密封所述物质通道。所述物质处理装置还包括一第一端口,用于将一第一流体引入所述密封腔,以及一第二端口,用于输出所述密封腔内的物质。所述物质处理装置和物质处理方法具有良好的密封效果,并有效防止被处理物质泄漏至外部环境。

    物质处理装置
    5.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101274234B

    公开(公告)日:2012-07-18

    申请号:CN200710307531.5

    申请日:2007-12-29

    Abstract: 一种物质处理装置包括第一元件以及可相对旋转地至少部分收容于该第一元件内的第二元件,第一元件和第二元件之间形成一大致呈环状的物质处理通道。物质处理通道包括预处理段和处理段。预处理段的构造使得预处理段在第一元件与第二元件相对旋转时产生一由预处理段指向处理段的分力,以将被处理物质推至处理段。处理段的构造使得第一元件与第二元件相对旋转达到一定转速时,处理段内的被处理物质被带动旋转并形成库特流。

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